Occasion SHOWA SHINKU SIA 3000 #9192914 à vendre en France

SHOWA SHINKU SIA 3000 est un équipement de pulvérisation ultramoderne largement utilisé pour le dépôt de couches minces par dépôt physique en phase vapeur (PVD) et présente des taux de dépôt élevés. Elle est particulièrement utile pour le dépôt de films de nitrure ou d'oxyde du fait de son domaine de fonctionnement plus large. Le système comprend une source de rotation de plasma, qui permet le dépôt de films d'épaisseur et de composition uniformes sur une large gamme d'épaisseur de film. Il est équipé d'un moniteur de flux d'ions, permettant de contrôler les vitesses de dépôt et d'un stabilisateur de puissance de source pour maintenir une vitesse de dépôt constante. De plus, l'unité est capable de pulvériser soit du courant continu, soit du rayonnement RF, selon le type de film déposé. SIA 3000 est conçu pour fournir un environnement contrôlé avec précision tant pour le pré-nettoyage des substrats que pour la pulvérisation. La chambre est contrôlée en température pour assurer des conditions de dépôt optimales, et sa machine intégrée d'élimination des particules assure que l'environnement de dépôt est exempt de contamination. L'outil fonctionne avec un obturateur à transfert rapide, permettant le dépôt rapide de films sur une variété de substrats, y compris les métaux, les verres, les polymères et les alliages. De plus, son blindage magnétique assure l'uniformité et la stabilité du plasma même lorsqu'il fonctionne à haute pression. Afin de s'assurer que le film a une épaisseur et une composition uniformes, l'actif est équipé d'un modèle de contrôle des processus qui surveille et ajuste les paramètres de dépôt. L'équipement offre également un choix de cibles (réfractaires, alliages, céramiques et composites), permettant la flexibilité de déposer une grande variété de types de films. L'un des plus grands avantages de SHOWA SHINKU SIA 3000 est son système d'exploitation facile à utiliser. Il dispose d'une interface utilisateur graphique conviviale qui simplifie le processus de configuration et facilite la programmation des paramètres de dépôt. De plus, sa caractéristique d'inclinaison et de rotation intégrées permet de positionner le substrat de manière appropriée dans la chambre pour atteindre le profil de dépôt souhaité. Globalement, SIA 3000 est un excellent choix pour le dépôt de couches minces par dépôt physique en phase vapeur. Son large éventail de caractéristiques, telles que son unité de chauffage, sa machine d'élimination des particules et son outil de contrôle des processus, en font un atout fiable qui peut fournir un dépôt précis et cohérent de différents types de films.