Occasion TAICHUNG SEIKI VVS-SS #293666752 à vendre en France

TAICHUNG SEIKI VVS-SS (Vacuum Vapor Sputtering Equipment - Substrate Sputter System) est une unité de pulvérisation à substrat polyvalente fabriquée par TAICHUNG SEIKI Co., Ltd., un fabricant leader de machines et d'équipements sous vide. L'outil de pulvérisation est conçu pour déposer des couches minces de divers matériaux sur des substrats de revêtement, de dépôt de films et autres procédés connexes. L'atout est idéal pour les applications nécessitant précision et contrôle de l'épaisseur et de la composition du revêtement. VVS-SS se compose de plusieurs composants nécessaires pour créer et contrôler l'atmosphère de pulvérisation. Le modèle se compose d'une chambre à vide qui peut fournir un environnement propre, sans contamination, des porte-cibles rotatifs, et un équipement d'alimentation électrique efficace pour fournir l'énergie et l'énergie électrique appropriée. Le système peut également être intégré à une chambre de serrure pour permettre le chargement et le déchargement automatiques des substrats. TAICHUNG SEIKI VVS-SS dispose d'une unité d'alimentation avancée et fiable qui peut fournir une tension et un courant stables pour les meilleurs résultats. Son panneau de commande avancé permet un réglage facile de tous les paramètres nécessaires pour une pulvérisation précise. En outre, la machine dispose également d'un outil de contrôle logiciel avancé qui peut surveiller et contrôler l'actif à distance. Le modèle est capable de pulvériser jusqu'à deux substrats simultanément et peut traiter un large éventail de matériaux, y compris des métaux, des isolants, des semi-conducteurs et des alliages. Il permet également de contrôler l'épaisseur et l'uniformité tout au long du processus de dépôt. En outre, l'équipement peut fournir des niveaux de vide jusqu'à 10- 6 torr pour une opération de pulvérisation efficace. VVS-SS est un système de pulvérisation thermique polyvalent et efficace qui peut être utilisé pour un large éventail d'applications, y compris le dépôt de couches minces, les revêtements de couches minces et les revêtements d'oxyde. En outre, il peut être utilisé pour la protection contre la corrosion, le dépôt de revêtements antireflet et la production de cellules solaires. L'unité offre un contrôle fiable et précis sur le processus, permettant aux utilisateurs la plus grande précision dans l'épaisseur et la composition du dépôt. De plus, la machine est facile à utiliser et à entretenir tout en fournissant une solution de coût économique pour la pulvérisation de substrat.