Occasion TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Apollo Nova HP #9222501 à vendre en France
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Vendu
ID: 9222501
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2015
Sputtering system, 12"
Includes:
Automated front end, 12"
(2) Load ports modules with RFID readers
Load lock / Degas / Wafer heat treatment module
ICP Etch module
With CTI Cryo pump, 8" and Constant Pressure Strike (CPS)
Roughing pump
(5) MAGNETRON Deposition chambers:
Power supply: 20 kW
Cryo pump, 8”
Cryo pump, 10”
B1-NS HP MAGNETRON for Ti
(2) B1-NS HP MAGNETRON for Cu
ESC 2 set of (3) trays size kit, 12"
Load Lock Back Side Gas (LLBSG)
Nitrogen gas stick
(2) Boost deposition shields
(2) Etch chamber shields
SECS / GEM
Cable kit, 30 foot option
(2) Spare boost deposition shields
(2) Spare etch chamber shields
(2) B1 MAGNETRON for future Cu / Ti capability
2015 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Apollo Nova HP est un équipement de pulvérisation à haute performance conçu et fabriqué par une entreprise japonaise, TEL. Le système est constitué d'une chambre à vide, d'une source de pulvérisation à bobine d'induction et d'une source d'alimentation. La chambre à vide est conçue et construite avec des matériaux, tels que l'acier inoxydable, conçu pour créer et maintenir un environnement à vide élevé pour le processus de pulvérisation. Il est équipé d'une variété d'équipements de mesure et de contrôle du vide, tels qu'un manomètre à vide, un régulateur de pression et une vanne, pour assurer un maintien précis et stable du niveau de vide dans la chambre à vide. La source de pulvérisation est une source de pulvérisation de bobine d'induction et se compose à la fois de sources de bobine d'induction supérieure et inférieure. Il présente une inductance, un courant et une fréquence réglables pour permettre d'optimiser les conditions de pulvérisation pour différents matériaux. La source de pulvérisation par bobine d'induction permet le dépôt uniforme et contrôlé de couches minces sur des substrats dans la chambre à vide. L'alimentation de l'unité de pulvérisation est conçue pour l'alimentation en courant continu et RF. L'alimentation RF a des niveaux de puissance réglables, et le courant et la tension sont contrôlés pour permettre des conditions de pulvérisation précises. Les alimentations en courant continu sont réglables indépendamment, et disposent d'un contrôle de courant et de tension pour régler les conditions de pulvérisation. TEL Apollo Nova HP est une machine à pulvériser polyvalente et puissante qui est bien adaptée à une multitude d'applications, telles que le dépôt de couches minces, les couches diélectriques IC, les TFT et les couches de surface arrière des cellules solaires. Robuste et durable, il peut être utilisé dans des industries telles que la microélectronique, l'automobile et l'énergie solaire.
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