Occasion ULVAC CERAUS ZI 1000 #9378914 à vendre en France

ID: 9378914
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
Sputtering system, 8" CIM: SEMI Auto to CTC Sputter Zi (LTS with sputter etcher) PF (6) Chambers Transfer, LLA And LLB Chamber P1 - ICP Etcher P2 - Degas P3 - ICP Etcher P4 - LTS (Ti/TiN) P5 - LTS (Ti/TiN) P6 - LTS (Ti/TiN) Loadlocks: LLA VCE4, (30) Metal stocker slots LLB VCE4, (30) Metal stocker slots Hardware configuration: Chamber 1: ICP Chamber 2: Degas Chamber 3: ICP Chamber 4: LTS Chamber 5: LTS Chamber 6: LTS In-aligner In-cooler Mainframe: BROOKS M800 Wafer mapping: Standard Transfer MAG 7.1 Robot Transfer armset MAG 6 3-Axis Bi-symmetric dual frogleg ULVAC C30ZR Helium compressor RISSHI CS-1700H Chiller Handler System Cables Metal cover Power supply rack Computer with rack Pump Front panel Raise platform & accessories Process: Chamber 1: Etch Chamber 2: Degas Chamber 3: Etch Chamber 4: Ti/TiN dep Chamber 5: Ti/TiN dep Chamber 6: Ti/TiN dep Wafer notch alignment Cooler Generators: Chamber 1: DC 1, DC 2, ULVAC RFS05C, RF, AC Bias Chamber 2: DC 1, DC 2, RF, AC Bias Chamber 3: DC 1, DC 2, RF ULVAC RFS05C, AC Bias Chamber 4: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi Chamber 5: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi Chamber 6: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi Turbo pumps: SHIMADZU 303LM SHIMADZU 303LM SHIMADZU 403LM SHIMADZU 1003LM SHIMADZU 1003LM SHIMADZU 1003LM SHIMADZU 1003LM SHIMADZU 1003LM 1998 vintage.
ULVAC CERAUS ZI 1000 est un équipement de pulvérisation par ULVAC (Ultra-Low Vacuum Apparatus Corporation), un fabricant de pointe de matériel de revêtement sous vide. Ce système utilise une cible en céramique et un gaz inerte ionisé tel que Ar ou He pour revêtir une grande variété de matériaux d'une couche de matériau désiré. La cible est placée dans une chambre à vide, et les ions sont accélérés vers la cible par une puissante source de tension modulée. La collision des ions accélérés avec la cible crée une atmosphère de particules nanométriques, permettant au matériau de revêtement d'adhérer au substrat observé de manière précise. ULVAC CERAUS ZI-1000 offre des performances uniques qui le distinguent des autres systèmes de pulvérisation. Son unité de régulation de température avancée permet un contrôle précis de la température et des opérations stables, même pendant des opérations prolongées. Cela permet d'assurer la cohérence du revêtement tout au long du processus. Il dispose également d'une machine de pré-allumage, qui réduit les temps de démarrage et améliore l'efficacité. L'outil est conçu pour assurer un dépôt uniforme du matériau de revêtement, avec une grande homogénéité et une excellente densité de particules sur l'ensemble du substrat. CERAUS ZI 1000 dispose d'un actif sous vide intégré, qui permet un dépôt à basse pression. Ce modèle a un vide maximum de 1 x 10-3 Torr, ce qui permet au matériau de revêtement de se déplacer en ligne droite plus efficace vers le substrat, permettant un meilleur contrôle de l'épaisseur du revêtement. Il dispose également d'emboîtements d'eau et de sécurité et d'un obstacle laser pour assurer la sécurité. CERAUS ZI-1000 est capable de fournir d'excellents résultats dans tous les types d'applications réactives de pulvérisation et d'évaporation thermique. Il est idéal pour réaliser des revêtements précis sur une grande variété de substrats, des polymères aux semi-conducteurs très sensibles. Il est réputé pour sa fabrication fiable et ses performances supérieures, ce qui le rend parfait pour une large gamme d'applications industrielles.
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