Occasion ULVAC CERAUS ZI 1000 #9378914 à vendre en France
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ID: 9378914
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
Sputtering system, 8"
CIM: SEMI Auto to CTC
Sputter Zi (LTS with sputter etcher)
PF
(6) Chambers
Transfer, LLA And LLB Chamber
P1 - ICP Etcher
P2 - Degas
P3 - ICP Etcher
P4 - LTS (Ti/TiN)
P5 - LTS (Ti/TiN)
P6 - LTS (Ti/TiN)
Loadlocks:
LLA VCE4, (30) Metal stocker slots
LLB VCE4, (30) Metal stocker slots
Hardware configuration:
Chamber 1: ICP
Chamber 2: Degas
Chamber 3: ICP
Chamber 4: LTS
Chamber 5: LTS
Chamber 6: LTS
In-aligner
In-cooler
Mainframe: BROOKS M800
Wafer mapping: Standard
Transfer MAG 7.1 Robot
Transfer armset MAG 6
3-Axis Bi-symmetric dual frogleg
ULVAC C30ZR Helium compressor
RISSHI CS-1700H Chiller
Handler System
Cables
Metal cover
Power supply rack
Computer with rack
Pump
Front panel
Raise platform & accessories
Process:
Chamber 1: Etch
Chamber 2: Degas
Chamber 3: Etch
Chamber 4: Ti/TiN dep
Chamber 5: Ti/TiN dep
Chamber 6: Ti/TiN dep
Wafer notch alignment
Cooler
Generators:
Chamber 1: DC 1, DC 2, ULVAC RFS05C, RF, AC Bias
Chamber 2: DC 1, DC 2, RF, AC Bias
Chamber 3: DC 1, DC 2, RF ULVAC RFS05C, AC Bias
Chamber 4: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Chamber 5: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Chamber 6: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Turbo pumps:
SHIMADZU 303LM
SHIMADZU 303LM
SHIMADZU 403LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
1998 vintage.
ULVAC CERAUS ZI 1000 est un équipement de pulvérisation par ULVAC (Ultra-Low Vacuum Apparatus Corporation), un fabricant de pointe de matériel de revêtement sous vide. Ce système utilise une cible en céramique et un gaz inerte ionisé tel que Ar ou He pour revêtir une grande variété de matériaux d'une couche de matériau désiré. La cible est placée dans une chambre à vide, et les ions sont accélérés vers la cible par une puissante source de tension modulée. La collision des ions accélérés avec la cible crée une atmosphère de particules nanométriques, permettant au matériau de revêtement d'adhérer au substrat observé de manière précise. ULVAC CERAUS ZI-1000 offre des performances uniques qui le distinguent des autres systèmes de pulvérisation. Son unité de régulation de température avancée permet un contrôle précis de la température et des opérations stables, même pendant des opérations prolongées. Cela permet d'assurer la cohérence du revêtement tout au long du processus. Il dispose également d'une machine de pré-allumage, qui réduit les temps de démarrage et améliore l'efficacité. L'outil est conçu pour assurer un dépôt uniforme du matériau de revêtement, avec une grande homogénéité et une excellente densité de particules sur l'ensemble du substrat. CERAUS ZI 1000 dispose d'un actif sous vide intégré, qui permet un dépôt à basse pression. Ce modèle a un vide maximum de 1 x 10-3 Torr, ce qui permet au matériau de revêtement de se déplacer en ligne droite plus efficace vers le substrat, permettant un meilleur contrôle de l'épaisseur du revêtement. Il dispose également d'emboîtements d'eau et de sécurité et d'un obstacle laser pour assurer la sécurité. CERAUS ZI-1000 est capable de fournir d'excellents résultats dans tous les types d'applications réactives de pulvérisation et d'évaporation thermique. Il est idéal pour réaliser des revêtements précis sur une grande variété de substrats, des polymères aux semi-conducteurs très sensibles. Il est réputé pour sa fabrication fiable et ses performances supérieures, ce qui le rend parfait pour une large gamme d'applications industrielles.
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