Occasion ULVAC Ceraus ZX-1000 #9078343 à vendre en France

L'équipement ULVAC Ceraus ZX-1000 Pulvérisation est utilisé pour des applications telles que le dépôt physique en phase vapeur, l'évaporation explosive et le dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma. Sa conception à grande surface et à trois cibles permet une pulvérisation rapide pour permettre une uniformité supérieure des films et un dépôt sur de grandes tailles de substrat. C'est un processus entièrement automatisé qui s'adapte aux séquences épaisses difficiles. Le système de pulvérisation ULVAC CERAUS ZX 1000 comprend une chambre à ultra-haut vide capable d'atteindre des pressions aussi basses que 1x10-6 Pa. Ce niveau élevé de vide est nécessaire pour assurer un dépôt de haute qualité. La chambre est équipée d'un magnétron à faible émission, à induction linéaire et d'une triple cible. Le magnétron à induction linéaire permet de déposer à des températures plus basses qu'avec d'autres équipements tout en étant capable de maintenir un dépôt uniforme sur de grandes surfaces. La configuration de la triple cible permet des taux de dépôt différents pour chacune des trois cibles, offrant une uniformité supérieure. Le ZX-1000 offre une excellente uniformité de dépôt, même avec des matériaux et des structures difficiles. L'unité peut également traiter des substrats flexibles aussi petits que 100mm x 150mm de taille, ainsi que des substrats plus grands jusqu'à 1000mm ². Une caractéristique unique du ZX-1000 est sa machine de distribution de gaz hautement configurable qui permet de différents processus de dépôt, tels que le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma et la pulvérisation par pulvérisation réactive. L'outil permet également un large éventail de paramètres de processus, tels que le contrôle de la polarisation de la cible, de la température du substrat, de la tension de la cathode, de la polarisation du substrat et du dégazage. Ceraus ZX-1000 Sputtering Asset offre une qualité et une homogénéité supérieures et est capable de réaliser des processus de dépôt complexes, ce qui le rend idéal pour des applications nécessitant un dépôt précis de couches minces et de structures. Ses caractéristiques avancées en font un outil puissant pour la production en grand volume de revêtements optiques en couches minces, de cellules solaires en couches minces, de diodes laser, de capteurs et d'autres dispositifs.