Occasion ULVAC Cryo-T12CBH #9380745 à vendre en France

ULVAC Cryo-T12CBH
ID: 9380745
Sputtering systems Cryo trap.
L'équipement de pulvérisation ULVAC Cryo-T12CBH est un outil de pointe capable d'obtenir un dépôt rapide de couches métalliques minces. Ce système est conçu pour le coût, la puissance et l'optimisation des procédés avec une gamme de vide de 1x10-7 ~ 3x10-3 Pa. Il est également capable de produire des films métalliques ultra-haute pureté avec une excellente uniformité et une parfaite planéité, avec une contrôlabilité de l'épaisseur totale de 1 ~ 3000 nm. Cryo-T12CBH est équipé d'une unité de refroidissement cryogénique avancée, qui sert à refroidir le substrat jusqu'à -180 ° C pendant le processus de dépôt. Ceci permet d'obtenir une vitesse de dépôt uniforme du film sur l'ensemble du substrat, ce qui conduit à une épaisseur de couche plus uniforme. La machine comprend également une source de faisceau d'électrons pour le pré-nettoyage du substrat. Le pré-nettoyage élimine l'adhérence de surface et réduit la rugosité de la couche de carbone diamant, améliorant la qualité de surface du substrat avant le dépôt du film. L'ULVAC Cryo-T12CBH a une vitesse de dépôt élevée, un outil de régulation de température indépendant, plus un débit de gaz uniforme, permettant un contrôle précis de l'environnement de la chambre de procédé. Il en résulte une absorption métallique minimale dans le substrat et une vitesse de dépôt plus élevée. L'actif de pulvérisation possède également une chambre de pré-ionisation optionnelle, qui est utilisée pour modifier le comportement des molécules de gaz entrant dans la chambre de procédé. Cela aide à réduire le problème de désorption plasmatique d'un film en croissance, entraînant une meilleure intégrité structurale du film. Cryo-T12CBH est capable d'augmenter la dureté du film et la résistance à l'adhérence en utilisant UV Assist, qui implique une exposition à la lumière UV contrôlée au substrat pendant le processus de pulvérisation. Cela aide à réduire les défauts du film et améliore la fiabilité et la stabilité du film à long terme, ce qui entraîne des dépôts plus équilibrés et plats. ULVAC Cryo-T12CBH est conçu pour répondre à diverses exigences d'application, y compris le revêtement sur couche, le dépôt de faisceaux de particules, les empilements de films multicouches et le traitement à basse température de l'hydrogène. Ce modèle de pulvérisation est l'un des outils les plus efficaces et les plus économiques pour pulvériser des films métalliques minces sur une variété de substrats. Avec ses technologies de pointe et sa durabilité, Cryo-T12CBH est un choix fiable pour toute application de pulvérisation.
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