Occasion ULVAC EBX 2000 #9243792 à vendre en France

ULVAC EBX 2000
ID: 9243792
Evaporator.
ULVAC EBX 2000 est un équipement de pulvérisation conçu pour créer des films minces à des fins de développement, de production et de contrôle de qualité. Le système offre un dépôt en couches minces à haut débit et à faible entretien, avec une excellente uniformité et des propriétés de film. ULVAC EBX-2000 est facile à utiliser et peut traiter une variété de matériaux et d'applications de dépôt. L'unité dispose d'une conception à deux chambres comprenant une chambre source et une chambre de serrure de charge. Cette conception permet à la machine de maintenir deux cibles simultanément, ce qui permet un débit plus élevé. La chambre de serrure permet la manipulation des échantillons afin que la chambre source reste propre et que le processus de dépôt reste intact. La chambre source d'EBX 2000 est composée d'une carte mère magnétron de type ICN, d'une source de plasma, d'une pompe mécanique, d'une pompe de diffusion et d'une pompe de support. La source magnétron de type ICN fournit l'énergie primaire pour le processus de pulvérisation. Il entraîne le plasma et génère un faisceau d'ions énergétiques très denses. Ce faisceau est alors dirigé sur la cible, provoquant l'éjection du matériau cible de sa surface et son dépôt sur le substrat. Les pompes mécaniques, de diffusion et d'appui assurent une aspiration continue pour maintenir la chambre source propre et exempte de contamination. EBX-2000 offre un large éventail de procédés de dépôt, des basses températures aux hautes températures. Il est également capable de gravure par pulvérisation, permettant l'élimination de films ou de couches minces d'échantillons. L'outil peut atteindre une homogénéité et une répétabilité supérieures en contrôlant l'épaisseur du film et la distance cible-substrat. En outre, la fonction de recette automatisée intégrée permet aux opérateurs de passer facilement entre les recettes et les processus. Avec l'ULVAC EBX 2000, les utilisateurs peuvent obtenir des procédés de pulvérisation hautement uniformes et reproductibles grâce à un dépôt efficace en couches minces. Sa conception polyvalente et son logiciel convivial le rendent idéal pour les applications de développement et de production, garantissant une qualité et des performances constantes.
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