Occasion ULVAC EBX-2000C #9260363 à vendre en France

ULVAC EBX-2000C est un équipement de pulvérisation conçu pour la technologie de dépôt en couches minces. Il utilise la technologie d'accélération des ondes électromagnétiques (EM), qui rend la source d'ions plus efficace et plus rapide sans avoir besoin d'un environnement sous pression ou d'autres sources d'énergie. Le système est constitué d'un ensemble cible, d'une chambre source, d'une chambre à vide, d'un pistolet pulvérisateur et d'une chambre auxiliaire optionnelle. L'ensemble cible permet de maintenir plusieurs cibles dans une seule trame, chacune avec un matériau différent, permettant une commutation rapide et facile des matériaux pour la pulvérisation. La chambre source est située là où se trouve la source d'ions et elle est reliée au pistolet pulvérisateur par des tubes fluidiques. La chambre à vide est utilisée pour créer l'environnement de vide nécessaire à la pulvérisation et peut être ajustée pour fournir différents niveaux de vide pour différents procédés de dépôt. Le pistolet pulvérisateur est l'endroit où le matériau à déposer est introduit dans l'unité, et où la technologie d'accélération EM entre en jeu. Enfin, la chambre auxiliaire est une chambre séparée qui peut être utilisée pour des procédés supplémentaires de dépôt de pulvérisateurs. Afin d'assurer un bon dépôt de film à partir d'ULVAC EBX 2000C, il est important de maintenir des mesures de vide, des pressions de pulvérisation, des niveaux de puissance et des températures de substrat appropriées. Un bon entretien de la machine est également important pour assurer la qualité du processus de dépôt. Cela comprend le nettoyage régulier de la chambre source et du pistolet à pulvérisation, et le contrôle des connexions électriques. L'outil est également livré avec un contrôleur qui peut être utilisé pour programmer et surveiller les opérations des actifs, ainsi que des fonctions d'enregistrement des données et de déclaration pour garder le suivi des temps de dépôt. Dans l'ensemble, EBX 2000 C est un modèle de pulvérisation par pulvérisation fiable et efficace avec de multiples configurations de cibles disponibles pour le dépôt de couches minces. Il fournit un large éventail de paramètres de fonctionnement pour adapter le procédé au profil de couche mince désiré, et fournit un processus de dépôt fiable et répétable lorsque correctement entretenu.