Occasion ULVAC EI-5 #293690584 à vendre en France

ID: 293690584
Style Vintage: 2018
E-Beam evaporator Batch type Rough pump Compressor Evaporation source: EGL-35M EB-Gun HEARTH 40CC (3) HEARTH 10CC HPS-1000N-100 Vapor deposition power supply Deposition controller: CRTM-9200 Exhaust system: CRYO-U16P Cryo pump C30VR Cryo compressor LR90 Auxiliary pump / dry pump Vacuum gauge: SH2-1 Ionization vacuum gauge G-TRAN Pirani vacuum gauge Operation system: PLC and PC control Touch panel operation 2018 vintage.
ULVAC EI-5 est un système de pulvérisation de qualité industrielle conçu au Japon et fabriqué par ULVAC Technologies. Il dispose d'une structure monobloc avec un générateur de champ magnétique et une chambre à vide très stable, ce qui en fait un choix optimal pour un dépôt physique en phase vapeur de haute précision. EI-5 est capable de traiter simultanément deux types de cibles, ce qui le rend très polyvalent pour diverses productions de couches minces composées. Il a une conception compacte, une bonne flexibilité de fonctionnement, et une faible consommation d'énergie qui est idéal pour un fonctionnement continu sur de longues heures. Le générateur de champ magnétique d'ULVAC EI-5 se compose d'un magnétron à double rotation très efficace et durable, d'un moteur linéaire et d'un moniteur de courant. En contrôlant le courant et en irradiant la puissance DC/RF, EI-5 est capable de contrôler facilement et précisément la pulvérisation magnétron. La vitesse maximale de pulvérisation est de 510 nm/min, en utilisant une seule cible. La chambre à vide d'ULVAC EI-5 adopte une cellule à 6 poches nouvellement conçue et est équipée d'une vanne à rugosité. Un système de rugissement actif contribue à améliorer la stabilité du vide, réduisant drastiquement le temps nécessaire pour régler la pression de vide. L'intérieur de la chambre est également revêtu d'une maille en acier inoxydable pour réduire le matériau d'accrochage. EI-5 est très efficace et a un débit impressionnant. Il est équipé de diverses fonctionnalités dont un PC intégré pour le contrôle et la surveillance, divers capteurs de haute précision, et un système de contrôle de processus amélioré. C'est un choix idéal pour les procédés opto-électroniques, d'affichage à écran plat et de production de semi-conducteurs.
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