Occasion ULVAC Ei-5K #9302604 à vendre en France

L'équipement de pulvérisation ULVAC Ei-5K est un système de dépôt ultramoderne permettant de créer des films minces et épais de haute qualité. Il combine des technologies de revêtement traditionnelles et nouvelles, lui permettant de travailler avec une variété de matériaux, y compris les métaux, les oxydes, les nitrures, les carbures et les silicures. ULVAC EI 5 K est idéal pour les applications nécessitant une grande précision, un dépôt à très faible masse thermique et des taux de dépôt élevés. Ei-5K est adapté à un ensemble de substrats, y compris l'aluminium, le molybdène, le cuivre, le chrome, le titane, l'alumine et le quartz. Cette unité de pulvérisation est équipée de sources ULVAC E-line RF/ICP qui permettent une optimisation sur une large gamme de conditions de pulvérisation. La machine peut également accueillir une large gamme de boucliers, tels que E-Shield et E-coat. EI 5 K offre un fonctionnement à double chambre qui permet le dépôt de matériaux complexes à haut débit. L'étage de source magnétron et de substrat peut être configuré dans des directions opposées permettant une pulvérisation bidirectionnelle indépendante. De plus, l'outil accueille plusieurs cibles allant d'une seule cible par chambre à plusieurs cibles par chambre. ULVAC Ei-5K est capable de produire des films de haute qualité de différents matériaux en tenant compte des différents paramètres tels que la pression, la vitesse de dépôt, la température et la vitesse de gravure. Pour des performances supérieures, l'ULVAC EI 5 K dispose d'un atout de contrôle plasma dynamique qui assure une surveillance en temps réel et un contrôle en boucle fermée du débit cible, de la puissance et/ou de la polarisation du substrat. Ei-5K est également équipé d'un modèle de contrôle de moniteur de dépôt, qui permet une surveillance précise de tous les éléments du procédé, tels que l'épaisseur, la vitesse de dépôt et la teneur atomique des films. Cet équipement fournit également à l'utilisateur une interface graphique pour une configuration facile du processus. En conclusion, le système de pulvérisation EI 5 K est un instrument remarquable pour le dépôt de couches minces et épaisses de haute qualité. Il offre un large éventail d'options et de cibles de substrat, un contrôle dynamique du plasma et une surveillance précise des dépôts. Cela fait d'ULVAC Ei-5K un choix idéal pour les applications de pulvérisation qui nécessitent une précision et un dépôt thermique ultra-faible.