Occasion ULVAC Ei-5K #9305863 à vendre en France

ULVAC Ei-5K est un équipement de pulvérisation haute performance conçu pour permettre le dépôt précis et fiable de couches minces. Il est doté de technologies de pointe, notamment d'un module de pulvérisation par polarisation pulsée de haute puissance et d'un module de pulvérisation par faisceau d'électrons. ULVAC EI 5 K est conçu pour le dépôt rapide d'une large gamme de matériaux, permettant la formation de films métalliques, de films diélectriques et de structures de dispositifs. Ei-5K dispose d'une source de pulvérisation magnétron refroidie à l'eau avec commande de mouvement motorisée à trois axes pour un blindage de substrat contrôlé avec précision et deux sources d'accélération et de polarisation distinctes et contrôlées indépendamment. Thisallows pour le dépôt uniforme de couches métalliques et diélectriques avec une excellente adhérence et stoechiométrie. Le système intégré de surveillance haute stabilité et haute résolution assure la précision de pulvérisation de films de haute qualité. Le module de pulvérisation par faisceau d'électrons EI 5 K permet de contrôler à grains fins la microstructure de films métalliques déposés. Le module contrôle précisément l'énergie de bombardement et le flux du faisceau, ce qui permet de réduire les contraintes, d'améliorer la cristallinité et d'améliorer la diffusion vers l'avant des surfaces de film. Le contrôleur d'ULVAC Ei-5K proposait une variété de recettes préprogrammées pour diverses applications, telles que des piles multicouches pour barrières de diffusion, des couches à indice de réfraction élevé et des diélectriques à bas k. L'ULVAC EI 5 K dispose également d'un module plasma arrière à l'hélium amélioré pour une plus grande uniformité plasmatique, ainsi que d'un contrôle magnéto-hydrodynamique avancé (MHD) pour des températures stabilisées et des fluctuations réduites lors de la pose des plateaux. L'unité est conçue pour un traitement à haut débit, permettant le dépôt rapide et uniforme de couches minces et le dépôt de couches métalliques conductrices et non conductrices, de couches diélectriques ainsi que de couches optiques. Enfin, la machine est équipée de dispositifs de sécurité avancés, y compris un interrupteur de sortie de plateau, des générateurs à plasma RF en option, des pompes à air, des systèmes de distribution de gaz et des pompes à humidité pour la livraison de gaz propre. Toutes ces caractéristiques se combinent pour faire de Ei-5K le choix idéal pour le dépôt de couches minces de haute précision dans les applications semi-conductrices, optoélectroniques et de revêtement résistant à l'usure.