Occasion ULVAC Ei-5K #9364554 à vendre en France

ULVAC Ei-5K est un système de pulvérisation thermique polyvalent et précis conçu pour déposer des couches minces sur divers substrats. Le système est équipé d'un outil de grappes à 5 chambres, permettant des configurations de processus personnalisables pour fournir une large gamme d'options de dépôt de matériaux. Utilisant la technologie ULVAC-VHS, il fournit un revêtement sputter de haute qualité avec un contrôle d'uniformité directionnelle avancé et d'excellentes propriétés de contrôle de la contrainte. ULVAC EI 5 K est conçu avec un bras mécanique qui est réglable selon différents angles nécessaires pour répondre à différentes exigences de processus. Il offre également une capacité de pompage de premier ordre, avec cryopumps situés à chacune des cinq chambres pour la commande dynamique de pompage. Il utilise un verrou de charge sous vide avec soupape d'arrêt rapide des gaz d'échappement pour le cyclage rapide des processus de dépôt, tandis que son interface de contrôleur moderne offre des diagnostics améliorés du système de contrôle et de contrôle des processus. Pour assurer la croissance des films de haute fidélité, Ei-5K est équipé d'un logiciel de contrôle de l'uniformité directionnelle avancé. Ceci assure un équilibre parfait entre la contrainte et la vitesse de dépôt, permettant un dépôt de film incroyablement uniforme et le contrôle de la contrainte. Plusieurs étapes de la surveillance du plasma garantissent une qualité de film élevée et un meilleur débit. Il offre également un port de vue optionnel pour la confirmation visuelle du processus afin de s'assurer que les performances du processus sont respectées, ainsi qu'un interféromètre laser pour effectuer la surveillance in situ du processus pour les substrats de plus grande taille. EI 5 K utilise la pulvérisation magnétron RF et DC, ainsi que les technologies d'évaporation thermique, de faisceau E et de décharge Glow. De plus, un DC-FIB intégré permet le dépôt précis de motifs de films sur des substrats difficiles à enrober comme le MEMS ou des objets 3D complexes. Il utilise également une variété de systèmes de gaz, dont l'argon, l'oxygène, l'azote, l'hexafluorure, Krypton, et d'autres, fournissant un contrôle précis du flux de matériaux et du débit de gaz. Enfin, ULVAC Ei-5K est spécifiquement conçu pour être flexible et efficace, permettant un faible impact environnemental avec une chambre de pulvérisation orbitale. Sa conception modulaire est conviviale et permet une croissance extensible avec des chambres ou des éléments supplémentaires, tandis que ses temps de cycle rapides et son fonctionnement fiable en font un choix idéal pour de nombreuses applications exigeantes de dépôt de films.