Occasion ULVAC MLX-3000N #9266533 à vendre en France

ULVAC MLX-3000N est un équipement de pulvérisation haute performance conçu pour des applications dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce système est composé d'une alimentation électrique, d'un générateur RF, d'une chambre de procédé, d'un étage de substrat et de divers composants supplémentaires. Le générateur RF offre jusqu'à 3000 watts de puissance et est capable de fournir des alimentations bidirectionnelles, à courant continu pulsé et à polarisation impulsionnelle. Le générateur RF dispose également d'un mode de polarisation impulsionnelle de grande puissance pour améliorer le contrôle des processus. La chambre de procédé est une unité d'échappement plane bidimensionnelle qui permet une décélération rapide du processus. La chambre de processus peut traiter des plaquettes jusqu'à 200mm de taille. Il supporte plusieurs procédés de pulvérisation, y compris le dépôt de film, le pré-nettoyage, le post-pulvérisation et la pulvérisation à cibles multiples. Cette chambre multiforme est équipée d'une machine de pompage ionique unique pour obtenir des vitesses de traitement et une uniformité élevées. L'étage de substrat est conçu pour fournir des substrats constants et fiables pour des exigences d'application ambitieuses. Cette étape comporte un outil de stabilisation actif intégré pour assurer un positionnement précis des plaquettes. Il dispose également d'un chargeur de plaquettes automatisé pour le chargement et le déchargement rapide du substrat. De plus, MLX-3000N peut être équipé de composants supplémentaires pour une plus grande flexibilité du processus. Un chauffe-substrat et un générateur d'oxygène atomique Asahi UNAX peuvent être intégrés dans la chambre pour des applications d'oxydation et de recuit plus avancées. Une sonde polarisée in situ peut également être ajoutée pour une meilleure surveillance des procédés. En conclusion, ULVAC MLX-3000N est un atout de pulvérisation avancée qui offre une puissance élevée, un traitement précis et une flexibilité de processus. Ses alimentations électriques de précision, sa chambre de procédé et son étage de substrat permettent une large gamme d'applications dans la fabrication de semi-conducteurs. Les composants supplémentaires permettent encore plus d'applications du procédé, de l'oxydation et du recuit à la surveillance du procédé.