Occasion ULVAC MLX-3000N #9273662 à vendre en France

ULVAC MLX-3000N est un équipement de pulvérisation à double magnétron utilisé pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques. Il offre un système de pulvérisation hybride à haute vitesse et à commande numérique, capable de déposer des films métalliques, oxydes, nitrures et alliages sur différents substrats. MLX-3000N est équipé de deux sources cibles : une source de pulvérisation magnétron à courant continu de forte puissance et un canon de pulvérisation RF de moyenne puissance. Chaque source peut être exploitée indépendamment, ce qui permet une variété de méthodes de dépôt. Un moniteur avancé d'épaisseur de film est inclus, permettant d'effectuer des mesures d'épaisseur précises pendant le processus de pulvérisation. De plus, ULVAC MLX-3000N dispose d'une navette à grande vitesse, permettant le chargement et le déchargement rapides de 4 plaquettes à la fois. L'unité a une configuration de source très flexible, permettant d'utiliser différents matériaux cibles et tailles de substrat. La source de magnétron DC offre d'excellents taux de dépôt et une bonne qualité de film. Il est équipé d'une alimentation en électrode, permettant un contrôle de haute précision du dépôt de film, ainsi qu'un contrôle précis du débit d'oxygène dans la chambre de dépôt. De plus, le pistolet à pulvérisation RF est conçu pour le dépôt de films petits et/ou épais. En plus du dépôt de films, MLX-3000N fournit également une gamme complète de procédés plasmatiques, y compris la gravure, le gettering d'impuretés, le nettoyage, la passivation de surface et d'autres traitements de surface. La machine est équipée d'un contrôleur de gravure avancé, permettant une gravure de haute qualité et de précision de tous les types de matériaux. En outre, il peut être utilisé pour des processus photo-induits, tels que la fabrication de LED et OLED. Dans l'ensemble, ULVAC MLX-3000N est un outil de pulvérisation hybride à haut débit économique, idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques. Il offre un dépôt rapide et polyvalent, permettant aux fabricants de produire des couches minces avec une uniformité et une qualité optimales. En outre, ses capacités complètes de traitement du plasma font l'atout adapté à un large éventail d'applications.