Occasion ULVAC SDP-651 #9379485 à vendre en France

ID: 9379485
Sputtering system (3) MITSUBISHI RH-L4B Robots RF Generator (12) SHIMADZU TMP1500 Turbo pumps (11) ULVAC VS 2401 Dry pumps.
ULVAC SDP-651, fabriqué par ULVAC-PHI, Inc., est un équipement de pulvérisation à haute précision et économique qui est conçu pour le dépôt en grand volume de couches minces. Ce système dispose d'une faible empreinte, avec une largeur maximale de 808mm, une hauteur de 875mm, et une profondeur de 1150mm. Il a une cible de pulvérisation de 9 pouces qui est capable de déposer jusqu'à 24 cibles. L'unité est alimentée par une puissante alimentation en courant continu (DC) et est capable de délivrer jusqu'à 350W de puissance pour le dépôt de couches minces. Il utilise un canon de pulvérisation à déluge ouvert monobloc monté avec des cibles simples ou double face. Les cibles simples ou doubles peuvent être chargées par type mécanique, machine de rehaussement électrique ou manuelle. L'outil est capable de fournir des sorties allant jusqu'à 75mA/in2 et 20mTorr. SDP-651 est équipé d'un contrôleur de processus qui surveille les conditions de processus, y compris la température, la pression de pulvérisation et la tension. La surveillance se fait au moyen d'un capteur de température infrarouge, d'un analyseur de gaz résiduel, d'un manomètre, d'un moniteur de courant cible et d'un moniteur de puissance de tension. Il peut être configuré pour un fonctionnement manuel ou automatique, permettant 18 options linguistiques différentes. L'actif utilise une sensibilité avancée à distance de travail prolongée pour assurer une grande uniformité et un dépôt uniforme. Il offre également une large gamme de matériaux et de tailles de substrat, qui peuvent être changés sans avoir besoin d'une nouvelle configuration de cible. La distance de travail prolongée est conçue pour minimiser l'effet du substrat sur les résultats du dépôt. ULVAC SDP-651 est spécifiquement conçu pour fournir les résultats de dépôt de couches minces de la plus haute qualité. Le modèle est équipé de caractéristiques de haute efficacité, de dépôt uniforme, d'épaisseur uniforme, de grande pureté et de faible variation thermique, ce qui en fait un choix idéal pour le dépôt de couches minces dans des applications à la fois organiques et inorganiques.
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