Occasion ULVAC SDP-S 1550VM #293753561 à vendre en France

ID: 293753561
Sputtering system Can be coated with SiO2/Nb2O5 high-penetration glass SiO2/Nb2O5 high-penetration glass + ITO MoNb/AlNd/ MoNb film SiO2+ITO.
ULVAC SDP-S 1550VM est un équipement de pulvérisation à haute performance et de pointe conçu pour le dépôt précis de couches minces dans une variété d'applications de recherche et industrielles. Ce système est équipé d'une technologie de pointe pour garantir une qualité de film supérieure, un débit élevé et un excellent contrôle des processus. SDP-S 1550VM dispose d'une configuration polyvalente qui permet de pulvériser un large éventail de matériaux, y compris les métaux, les oxydes et les nitrures. Cette unité est capable de déposer des films avec une homogénéité et un contrôle d'épaisseur exceptionnels, ce qui la rend idéale pour des applications nécessitant un dépôt de couche précis, telles que la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, les revêtements optiques et le développement de capteurs. Une des caractéristiques clés de l'ULVAC SDP-S 1550VM est sa grande chambre de dépôt, qui accueille des substrats de différentes tailles jusqu'à 200 mm de diamètre. Cela permet aux utilisateurs de déposer des films sur une gamme de substrats, de petits échantillons à des fins de R-D à l'échelle de la production. La machine est également équipée d'un étage de substrat de haute précision qui assure un positionnement et une rotation précis pendant le processus de dépôt, conduisant à une qualité de film constante sur toute la surface du substrat. SDP-S 1550VM incorpore une source de pulvérisation magnétron, qui génère un plasma composé d'ions métalliques qui sont pulvérisés à partir d'un matériau cible sur la surface du substrat. La source magnétron est équipée de systèmes avancés d'alimentation et de contrôle qui permettent d'ajuster avec précision les paramètres du processus de pulvérisation, tels que la puissance cible, le débit de gaz et la pression. Ce niveau de contrôle permet aux utilisateurs d'adapter les propriétés du film, telles que la composition, l'épaisseur et la morphologie, pour répondre à des exigences spécifiques pour leur application. En plus de la pulvérisation magnétron, l'ULVAC SDP-S 1550VM peut être configuré avec plusieurs sources de pulvérisation, y compris la pulvérisation RF et DC, permettant la co-pulvérisation de différents matériaux et le dépôt de films multicouches. Cette capacité améliore la polyvalence de l'outil et permet aux utilisateurs de créer des structures de films complexes aux propriétés uniques, tels que des filtres optiques, des revêtements barrières et des couches minces magnétiques. SDP-S 1550VM est équipé d'une interface conviviale qui permet de contrôler intuitivement le processus de dépôt grâce à un écran tactile graphique. L'atout est fourni avec des recettes préprogrammées pour des processus de dépôt communs, ainsi que la capacité de créer des recettes personnalisées adaptées à des systèmes de matériaux spécifiques et des propriétés de film. La surveillance en temps réel et l'enregistrement des données permettent aux utilisateurs de suivre les paramètres du processus de dépôt et d'analyser les caractéristiques du film pour le contrôle de la qualité et l'optimisation. Dans l'ensemble, ULVAC SDP-S 1550VM est un modèle de pulvérisation ultramoderne qui offre des capacités avancées pour le dépôt précis de couches minces dans un large éventail d'applications industrielles et de recherche. Avec ses caractéristiques de haute performance, sa configuration polyvalente et son interface conviviale, cet équipement fournit aux chercheurs et aux fabricants les outils dont ils ont besoin pour atteindre une qualité de film supérieure et répondre aux exigences exigeantes des technologies modernes des films minces.
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