Occasion ULVAC SH-450H-C10 #9313937 à vendre en France

ULVAC SH-450H-C10 est un équipement de pulvérisation magnétron DC qui peut être utilisé pour créer des films minces de divers matériaux. Il s'agit d'un trois canon, dispositif à double chambre et dispose d'un système d'alimentation robuste. L'unité est hautement automatisée, avec une interface utilisateur avancée qui permet à l'opérateur de sélectionner et modifier facilement les paramètres de pulvérisation. SH-450H-C10 dispose d'une chambre à vide haute pouvant supporter une pression de fonctionnement de 6x10̄³ à 4x10̄⁸ Pa. Elle est alimentée par une alimentation robuste de 2,5 ou 4 kW, avec la possibilité d'étendre la puissance à 6 kW, permettant des vitesses de dépôt rapides des pulvérisateurs. Il dispose d'une grande chambre de soufflage par pulvérisation adaptée à une grande variété de matériaux cibles, avec trois cibles EUV de 6 ". La chambre est également équipée d'un bocal à cloche compatible 4 ". ULVAC SH-450H-C10 dispose de deux systèmes optiques à ouvertures carrées. Le premier est un collecteur elliptique avec une fente interne, tandis que l'autre est un moniteur à cristaux de quartz, permettant une surveillance en temps réel du paramètre de procédé et l'assurance de la qualité. La machine dispose également d'un outil de refroidissement cryogénique intégré pour assurer un processus stable. En outre, SH-450H-C10 dispose d'un mécanisme à trois canons. Parmi les trois canons, le Central Apex Gun Asset a un magnétron à anneaux crénelés, tandis que les deux autres canons ont des magnétrons plats à diaphragme. Le modèle offre également une large gamme de pulvérisation de gaz réactifs utilisant soit une injection de gaz entérale sous vide, soit une enveloppe de gaz à basse pression. Dans l'ensemble, ULVAC SH-450H-C10 est un équipement puissant et polyvalent pour des applications de pulvérisation magnétique à courant continu telles que le dépôt de couches minces de matériaux conducteurs, semi-conducteurs et diélectriques. Il offre une combinaison de taux de dépôt élevés, de faible contamination, de bon débit et de petite génération de particules, ce qui en fait un choix idéal pour le dépôt de matériaux dans divers domaines tels que l'électronique, l'optique, la nanoscience et l'ingénierie.