Occasion ULVAC SIV-200S #293637679 à vendre en France

ULVAC SIV-200S est un système de pulvérisation à magnétron continu à chambre unique conçu pour la recherche et le développement de dispositifs semi-conducteurs avancés. L'équipement est capable de produire des couches minces de haute performance avec des taux de dépôt allant jusqu'à 5 Å/s, sur une gamme de matériaux de substrat incluant le verre, la céramique et d'autres matériaux. SIV-200S dispose d'une distribution de gaz à haut rendement avec une ligne de faisceau moléculaire intégrée pour le dépôt de matériaux à haute performance. Les configurations à double extrémité de pulvérisation magnétron supportent jusqu'à quatre cathodes et deux anodes, ce qui permet une plus grande souplesse dans le dépôt des échantillons. De plus, l'utilisation d'un transformateur différentiel variable linéaire indépendant (LVDT) permet un contrôle individuel de la polarisation linéaire sur chaque cathode séparément. Cette caractéristique peut être utilisée pour améliorer l'uniformité du matériau du substrat et réduire les effets de charge. Le module de four du système est équipé d'une gamme de fours à chauffage à haute température (HOTs) et de plaques chaudes, ce qui en fait une option appropriée pour enduire les matériaux sensibles à la température. Le Hot Plate a une plage de température allant jusqu'à 1000 ° C, avec une fixation Thermocouple en option disponible pour une surveillance de température très précise. L'unité comprend un générateur RF avancé pour contrôler la fréquence, l'ampleur et la durée du bombardement ionique pendant les processus de gravure et de dépôt. ULVAC SIV-200S est très adaptable à différentes expériences, ce qui permet d'ajuster une gamme de fonctionnalités avec une suite logicielle de contrôle complète. Cela comprend la capacité de programmer plusieurs tâches, de surveiller l'analyse des échantillons en temps réel sur jusqu'à quatre plaquettes, et de choisir parmi une gamme de recettes disponibles pour des spécifications spécifiques de film mince. Dans l'ensemble, SIV-200S est une machine fiable et facile à utiliser conçue pour répondre aux exigences de la recherche et du développement des semi-conducteurs de pointe. La capacité de l'outil à supporter le contrôle individuel de la cathode et les sources de RF à fréquence variable le rendent capable de produire une variété d'effets de couche mince, y compris une uniformité exceptionnelle des films, une faible charge et des taux de dépôt élevés.