Occasion ULVAC SIV-200S #9107294 à vendre en France

ULVAC SIV-200S est un équipement de pulvérisation thermique fabriqué par ULVAC (Ultra-Precision Vacuum Technology). Il s'agit d'un système de dépôt de pulvérisateurs ultra-petits conçu pour le revêtement de films à haute transparence tels que ITO et A-Si, sur de grands substrats tels que des panneaux plats. L'unité comprend une chambre de pulvérisation à 2 sources, une chambre de pulvérisation réactive à une seule source et une chambre d'oxydation à haute température de la pression atmosphérique, permettant le dépôt de films conducteurs et isolants. SIV-200S est une machine de micro-traitement en boucle fermée avec une faible consommation d'énergie et un débit élevé. ULVAC SIV-200S utilise une technologie unique de pulvérisation magnétron à 2 sources pour déposer des films. Cette technologie minimise le risque de particules pulvérisées des surfaces des échantillons tout en optimisant le bombardement ionique afin d'assurer l'homogénéité du film. Le procédé de pulvérisation est très efficace, comme le confirment les taux de dépôt élevés (jusqu'à 50nm/min). En outre, avec la capacité de déposer jusqu'à 4 cibles simultanément, l'outil a des capacités de débit élevé. La chambre de pulvérisation réactive à source unique utilise un magnétron RF compact pour déposer des films d'oxyde tels que ITO et A-Si. La technologie unique de pulvérisation à source unique permet de réduire les risques de contamination, d'améliorer l'uniformité des films et d'augmenter le taux de dépôt jusqu'à 1500nm/min. L'actif est également capable d'incorporer des mécanismes de balayage pour assurer un bombardement ionique optimal. SIV-200S dispose également d'une chambre d'oxydation à haute température pour le dépôt de films d'oxyde réfractaire. Cette caractéristique permet l'oxydation des métaux pour une vitesse d'oxydation 4x accrue tout en conservant une grande pureté et homogénéité dans le film. Dans l'ensemble, le modèle ULVAC SIV-200S Sputtering est un choix idéal pour le dépôt très efficace de films conducteurs et isolants. Sa technologie de pointe et ses caractéristiques le rendent parfait pour des tâches telles que le dépôt de films à haute transparence sur de grands substrats, ce qui le rend bien adapté à la production de panneaux plats.