Occasion ULVAC SIV-500F #9269095 à vendre en France
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ID: 9269095
Sputtering system
UL/CH:
Vacuum chamber: AI Chamber
Accessories:
Door grip opening mechanism
(2) Carrier sensors
Door sensor
O-Ring
Isolation valve (Between vacuum and vacuum)
Transfer system:
Carrier transfer mechanism
Carrier 2-stage exchange system
Measurements system:
ULVAC SW-1 Pirani vacuum gauge
SMC ZSE80F-A2L-R-M Atmospheric pressure switch
Vacuum pumping system:
Rotary pump
ULVAC VLP-U3SW Roughing valve
SMC XLG-50-M9NA-X62 Vent valve
Piping
Chamber B:
Vacuum chamber: AI Chamber
Accessories:
Door grip opening mechanism
(2) Carrier sensor
Door sensor
O-Ring
Isolation valve (Between vacuum and vacuum)
Transfer system:
Carrier transfer mechanism
Carrier 2-stage exchange system
Substrate heating system:
Heating mechanism
Heater power supply
Temperature controller with overheating
Thermocouple
Measurements system:
ULVAC SPU Pirani vacuum gauge
SMC ZSE80F-A2L-R-M Atmospheric pressure switch
ULVAC SH2 Ionization vacuum gauge
Vacuum pumping system:
ULVAC CRY0-U12HSP Cryo pump
Main valve: No APC
Piping
Gas inlet system:
FUJIKIN FCST1005LUC-4J2-F200-AR MFC
Ar: 200 SCCM
Gas valve
SWAGELOK Type
Piping: Stainless steel
Etching chamber:
Vacuum chamber: AI Etching chamber
Accessories:
Door grip open mechanism
(2) Carrier sensors
Door sensor
O-Ring
Transfer system: Carrier transfer mechanism
RF Etching system: RF Etching unit
Cooling system: ESC Stage
Power supply system:
ADTEC TX30-DOOO-10 RF Power supply, 3 kW
ADTEC AMVG-3000-NC Match box, 3 kW
Rotation chamber:
Vacuum chamber: Rotation chamber: Fe and Plated
Accessories:
(4) Carrier sensors
O-Ring
Transfer system:
Carrier transfer mechanism
Carrier rotation mechanism
Vacuum pumping system:
U12HSP Cryo pump
Vacuum piping
Main valve: No APC
Measurement system:
ULVAC SPU Pirani vacuum gauge
SMC ZSE80F-A2L-R-M Atmospheric pressure switch
ULVAC SH2 Ionization vacuum gauge
Gas inlet system:
FUJIKIN FCST1005LUC-4J2-F200-AR MFC
Ar: 200 sccm
Gas valve
SWAGELOK Type
Piping: Stainless steel
Sputtering chamber (Ti):
Vacuum chamber: AI Sputter chamber
Accessories:
Door grip open mechanism
(2) Carrier sensors
Door sensor
O-Ring
Transfer system: Carrier transfer mechanism
Cathodes system: Magnetron cathode unit
Stage system: RF Bias Stage
Power supply system:
ADVANCED ENERGY Pinnacle DC Power supply, 20 kW
ADTEC TX30-DOOO-10 RF Power supply, 3 kW
ADTEC AMVG-3000-NC Match box, 3 kW
Sputtering chamber (Cu):
Vacuum chamber: AI Sputter chamber
Accessories:
Door grip open mechanism
(2) Carrier sensors
Door sensor
O-Ring
Transfer system: Carrier transfer mechanism
Cathode system: Magnetron cathode unit
(2) ADVANCED ENERGY Pinnacle 20 DC power supplies, 40 kW
Compressed dry air system:
Filter regulator unit
Solenoid valve unit
Piping
Speed controller
Cooling water system:
Water supply and return header manifold
Cooling water piping
Pressure switch
Flow meter
Structure frame system:
SS400 Frame
Panel.
ULVAC SIV-500F est un système perfectionné de pulvérisation à haute performance conçu pour les applications de l'électronique de puissance et de la technologie des couches minces. Cette plate-forme hautement automatisée dispose de diagnostics optiques, électriques et plasma intégrés pour garantir des résultats reproductibles et de haute qualité après le déplacement. Ses composants fondamentaux sont une chambre de processus facile d'accès et une ligne de faisceau intégrée. La chambre de procédé lourde et refroidie à l'eau est construite en acier inoxydable et est certifiée pour 200 mT atm-ccn. Capable de maintenir jusqu'à 15 plaquettes de substrat en plus d'un porte-cible incliné, la chambre dispose également d'un aimant de direction intégré et d'un bouclier Faraday pour le dépôt de pulvérisateurs sans champ et de haute précision. La ligne de faisceau intégrée contient deux sources de bombardement électronique pour les traitements de surface non réactifs de gravure et de pré-dépôt. Équipé d'un logiciel de contrôle avancé, SIV-500F est conçu pour être simple à utiliser. Il peut être rapidement et facilement programmé pour effectuer une large gamme de recettes de pulvérisation, permettant aux utilisateurs de reproduire avec précision les résultats pour une optimisation facile des processus. En outre, tous les paramètres et résultats peuvent être stockés et rappelés pour une étude ultérieure. Le procédé de pulvérisation à haute vitesse et multi-sources fiable fait d'ULVAC SIV-500F un choix idéal pour la fabrication de couches minces. Sa technologie d'alimentation avancée permet des courants élevés, un arc faible et des temps de rampe rapides. De plus, ses sources de pulvérisation peuvent être contrôlées de manière indépendante, offrant une flexibilité de procédé inégalée. Cette flexibilité peut encore être améliorée grâce à la puissance d'entrée réglable, à la fréquence de fonctionnement et aux flux de gaz de traitement. Pour une sécurité accrue, SIV-500F est livré avec des caractéristiques de sécurité avancées telles que la détection des fuites de gaz, l'arrêt automatique, et un interrupteur d'interception d'urgence. En outre, il est conçu avec des serrures de porte conviviales, une grande fenêtre de visualisation, et l'éclairage supérieur. Afin de maximiser le débit, ULVAC SIV-500F propose également des outils de diagnostic avancés qui permettent aux utilisateurs de surveiller tous les paramètres du processus en temps réel. Pour améliorer encore la fabrication des films minces, le système est également livré avec du matériel et des logiciels dédiés pour le contrôle de la température et de la pression, ainsi que des systèmes automatisés pour la manutention des plaquettes et des systèmes de convoyage pour améliorer l'efficacité. Dans l'ensemble, SIV-500F combine robustesse, fiabilité et sécurité accrue pour créer l'outil parfait pour les applications industrielles et de recherche. Avec des diagnostics intégrés, une facilité de fonctionnement et des fonctionnalités avancées, ULVAC SIV-500F est le choix idéal pour créer des films minces de haute qualité.
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