Occasion ULVAC SIV-500F #9269095 à vendre en France

ULVAC SIV-500F
ID: 9269095
Sputtering system UL/CH: Vacuum chamber: AI Chamber Accessories: Door grip opening mechanism (2) Carrier sensors Door sensor O-Ring Isolation valve (Between vacuum and vacuum) Transfer system: Carrier transfer mechanism Carrier 2-stage exchange system Measurements system: ULVAC SW-1 Pirani vacuum gauge SMC ZSE80F-A2L-R-M Atmospheric pressure switch Vacuum pumping system: Rotary pump ULVAC VLP-U3SW Roughing valve SMC XLG-50-M9NA-X62 Vent valve Piping Chamber B: Vacuum chamber: AI Chamber Accessories: Door grip opening mechanism (2) Carrier sensor Door sensor O-Ring Isolation valve (Between vacuum and vacuum) Transfer system: Carrier transfer mechanism Carrier 2-stage exchange system Substrate heating system: Heating mechanism Heater power supply Temperature controller with overheating Thermocouple Measurements system: ULVAC SPU Pirani vacuum gauge SMC ZSE80F-A2L-R-M Atmospheric pressure switch ULVAC SH2 Ionization vacuum gauge Vacuum pumping system: ULVAC CRY0-U12HSP Cryo pump Main valve: No APC Piping Gas inlet system: FUJIKIN FCST1005LUC-4J2-F200-AR MFC Ar: 200 SCCM Gas valve SWAGELOK Type Piping: Stainless steel Etching chamber: Vacuum chamber: AI Etching chamber Accessories: Door grip open mechanism (2) Carrier sensors Door sensor O-Ring Transfer system: Carrier transfer mechanism RF Etching system: RF Etching unit Cooling system: ESC Stage Power supply system: ADTEC TX30-DOOO-10 RF Power supply, 3 kW ADTEC AMVG-3000-NC Match box, 3 kW Rotation chamber: Vacuum chamber: Rotation chamber: Fe and Plated Accessories: (4) Carrier sensors O-Ring Transfer system: Carrier transfer mechanism Carrier rotation mechanism Vacuum pumping system: U12HSP Cryo pump Vacuum piping Main valve: No APC Measurement system: ULVAC SPU Pirani vacuum gauge SMC ZSE80F-A2L-R-M Atmospheric pressure switch ULVAC SH2 Ionization vacuum gauge Gas inlet system: FUJIKIN FCST1005LUC-4J2-F200-AR MFC Ar: 200 sccm Gas valve SWAGELOK Type Piping: Stainless steel Sputtering chamber (Ti): Vacuum chamber: AI Sputter chamber Accessories: Door grip open mechanism (2) Carrier sensors Door sensor O-Ring Transfer system: Carrier transfer mechanism Cathodes system: Magnetron cathode unit Stage system: RF Bias Stage Power supply system: ADVANCED ENERGY Pinnacle DC Power supply, 20 kW ADTEC TX30-DOOO-10 RF Power supply, 3 kW ADTEC AMVG-3000-NC Match box, 3 kW Sputtering chamber (Cu): Vacuum chamber: AI Sputter chamber Accessories: Door grip open mechanism (2) Carrier sensors Door sensor O-Ring Transfer system: Carrier transfer mechanism Cathode system: Magnetron cathode unit (2) ADVANCED ENERGY Pinnacle 20 DC power supplies, 40 kW Compressed dry air system: Filter regulator unit Solenoid valve unit Piping Speed controller Cooling water system: Water supply and return header manifold Cooling water piping Pressure switch Flow meter Structure frame system: SS400 Frame Panel.
ULVAC SIV-500F est un système perfectionné de pulvérisation à haute performance conçu pour les applications de l'électronique de puissance et de la technologie des couches minces. Cette plate-forme hautement automatisée dispose de diagnostics optiques, électriques et plasma intégrés pour garantir des résultats reproductibles et de haute qualité après le déplacement. Ses composants fondamentaux sont une chambre de processus facile d'accès et une ligne de faisceau intégrée. La chambre de procédé lourde et refroidie à l'eau est construite en acier inoxydable et est certifiée pour 200 mT atm-ccn. Capable de maintenir jusqu'à 15 plaquettes de substrat en plus d'un porte-cible incliné, la chambre dispose également d'un aimant de direction intégré et d'un bouclier Faraday pour le dépôt de pulvérisateurs sans champ et de haute précision. La ligne de faisceau intégrée contient deux sources de bombardement électronique pour les traitements de surface non réactifs de gravure et de pré-dépôt. Équipé d'un logiciel de contrôle avancé, SIV-500F est conçu pour être simple à utiliser. Il peut être rapidement et facilement programmé pour effectuer une large gamme de recettes de pulvérisation, permettant aux utilisateurs de reproduire avec précision les résultats pour une optimisation facile des processus. En outre, tous les paramètres et résultats peuvent être stockés et rappelés pour une étude ultérieure. Le procédé de pulvérisation à haute vitesse et multi-sources fiable fait d'ULVAC SIV-500F un choix idéal pour la fabrication de couches minces. Sa technologie d'alimentation avancée permet des courants élevés, un arc faible et des temps de rampe rapides. De plus, ses sources de pulvérisation peuvent être contrôlées de manière indépendante, offrant une flexibilité de procédé inégalée. Cette flexibilité peut encore être améliorée grâce à la puissance d'entrée réglable, à la fréquence de fonctionnement et aux flux de gaz de traitement. Pour une sécurité accrue, SIV-500F est livré avec des caractéristiques de sécurité avancées telles que la détection des fuites de gaz, l'arrêt automatique, et un interrupteur d'interception d'urgence. En outre, il est conçu avec des serrures de porte conviviales, une grande fenêtre de visualisation, et l'éclairage supérieur. Afin de maximiser le débit, ULVAC SIV-500F propose également des outils de diagnostic avancés qui permettent aux utilisateurs de surveiller tous les paramètres du processus en temps réel. Pour améliorer encore la fabrication des films minces, le système est également livré avec du matériel et des logiciels dédiés pour le contrôle de la température et de la pression, ainsi que des systèmes automatisés pour la manutention des plaquettes et des systèmes de convoyage pour améliorer l'efficacité. Dans l'ensemble, SIV-500F combine robustesse, fiabilité et sécurité accrue pour créer l'outil parfait pour les applications industrielles et de recherche. Avec des diagnostics intégrés, une facilité de fonctionnement et des fonctionnalités avancées, ULVAC SIV-500F est le choix idéal pour créer des films minces de haute qualité.
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