Occasion ULVAC SMD-450 #9269729 à vendre en France

ULVAC SMD-450 est un équipement de pulvérisation hautement avancé conçu pour les procédés de dépôt en couches minces. Il est capable de produire une large gamme de films minces d'une manière incroyablement efficace, grâce à ses nombreuses fonctionnalités et composants avancés. Le système utilise une chambre à vide ultra haute, capable de maintenir des niveaux de pression allant jusqu'à 10-5 Pa. Cela lui permet d'atteindre des vitesses de pulvérisation allant jusqu'à 1,5 nm/s. SMD-450 est une unité modulaire à deux étages, permettant à l'utilisateur de combiner différentes sources de pulvérisation (y compris les sources de courant continu, d'arc cathodique pulsé et filtré) pour obtenir les résultats souhaités. La machine est capable de pulvériser des matériaux de viscosité faible à élevée, y compris des métaux amorphes et polycristallins, des céramiques, des composites et des matériaux diélectriques. Il est également capable de pulvériser des composés, ce qui est particulièrement important dans de nombreuses applications de cellules solaires à couches minces. L'outil est conçu de telle sorte que la pulvérisation avec différents composés peut être réalisée dans une course individuelle, permettant une grande efficacité du processus. En outre, l'atout a d'excellents biais de substrat, RF, et les capacités de nettoyage du plasma. Cela permet à l'utilisateur d'obtenir des films minces de meilleure qualité avec une morphologie de surface plus serrée, et des densités plus élevées. L'uniformité des films est également améliorée grâce à sa technologie de source ECR (à décharge d'arc induite), qui aide à repérer la zone du substrat où la pulvérisation doit se produire, assurant ainsi des caractéristiques de dépôt équilibrées et homogènes. La vitesse de dépôt dense allant jusqu'à 8 nm/min, ainsi que sa capacité à déposer une grande variété de matériaux, font d'ULVAC SMD-450 un outil précieux pour la fabrication de couches minces. La flexibilité, la qualité et l'efficacité globale du modèle le rendent bien adapté à une utilisation dans des applications électroniques telles que la production de têtes de magnétorésistance (TMR) sur disque dur et tunnel, ainsi que pour des applications optiques telles que la production d'antireflets (ARD) et d'oxyde conducteur transparent (TCO). De plus, grâce à son débit plus élevé et à sa grande compatibilité avec les procédés de viscosité, il peut être utilisé pour la production de dispositifs à miroir numérique (DMD).