Occasion ULVAC SMD-850BX3 #9285784 à vendre en France

L'équipement de pulvérisation ULVAC SMD-850BX3 est une méthode avancée de création de couches minces par revêtement d'un substrat avec une grande variété de matériaux tels que les métaux, la céramique, les semi-conducteurs et les diélectriques. Ses fonctionnalités avancées comprennent une source de pulvérisation magnétron à courant continu pulsé ultra-court (Direct Current), un système d'arrêt à charge ouverte et un mode de recette automatique en option. L'unité présente une grande homogénéité et des taux de dépôt élevés, ce qui la rend bien adaptée à la production en grand volume de couches minces utilisées dans diverses industries. SMD-850BX3 a une capacité de charge allant jusqu'à 5 po de diamètre et jusqu'à 5 po d'épaisseur avec un niveau de vide de 5x10-6Pa et une température maximale de 150 ° C La machine utilise deux sources de pulvérisation indépendantes, lui permettant de créer deux couches différentes de film mince sur un substrat. Ses autres caractéristiques comprennent le dépôt multicouche, la possibilité de pulvériser simultanément deux matériaux différents, et une couche de film déposée uniforme sans variation d'épaisseur ou de particules. L'outil de pulvérisation ULVAC SMD-850BX3 est équipé d'une pompe turbo-moléculaire compacte qui permet un pompage à grande vitesse pour une évacuation rapide et une compression de gaz élevée. Il offre également un atout d'arrêt à charge ouverte, qui ferme automatiquement le modèle lorsque la pression de la chambre est trop faible, évitant les dommages dus à la pression de déséquilibre. De plus, l'équipement dispose d'un mode de recette automatique en option qui peut être programmé pour définir automatiquement les conditions requises pour un processus de dépôt particulier. SMD-850BX3 est un système de pulvérisation cathodique fiable et économique qui offre une excellente uniformité et des taux de dépôt pour un large éventail d'applications. Son unité de travail intuitive est facile à utiliser, ce qui la rend adaptée à la fois à la production industrielle et de laboratoire à petite échelle. En outre, ses caractéristiques et capacités avancées garantissent que le substrat est revêtu de façon cohérente du matériau approprié, fournissant des couches cohérentes de film mince.