Occasion ULVAC ULDiS-200 #9237375 à vendre en France

ID: 9237375
Style Vintage: 2013
Digital sputtering system 2013 vintage.
ULVAC ULDiS-200 est un équipement de pulvérisation à haute performance conçu pour le dépôt de matériaux en couches minces sur des substrats. Ce système dispose d'une source jusqu'à 8 kW, d'une chambre à vide à commande électronique et d'une porte d'ouverture avant pour un accès facile. ULDiS-200 source est une unité de cathode creuse à couplage inductif à fréquence radio (RF) alimentée par une alimentation en courant continu. Cette machine source produit un plasma ionisé d'électrons de haute énergie qui bombardent le substrat avec des ions et des particules neutres, tout en générant une vitesse de dépôt importante. La chambre à vide d'ULVAC ULDiS-200 est composée d'acier inoxydable et conçue pour répondre à toutes les exigences de sécurité et de fonctionnement. La chambre est isolée et thermiquement stable avec d'excellentes caractéristiques de vide, permettant à l'outil de réaliser des temps de dépôt longs. Sa lecture numérique de la pression assure un contrôle précis de la pression, tandis que sa porte d'ouverture avant permet une accessibilité facile lors du chargement et du déchargement des substrats. ULDiS-200 est capable de produire un ensemble de types de matériaux, y compris le silicium polycristallin, les oxydes et nitrures de silicium, le nitrure de titane et le molybdène. L'actif a également été conçu pour effectuer un contrôle précis de l'épaisseur et de l'uniformité, ce qui en fait un choix idéal pour la production de couches de film épais jusqu'à 5 μ m. En outre, ULVAC ULDiS-200 est équipé d'une variété d'outils pour la surveillance du plasma et le contrôle de la température. Le modèle dispose d'une large gamme d'accessoires, y compris des creusets, des gaz traces et des thermocouples. En conséquence, les utilisateurs sont en mesure de surveiller pleinement tous les processus de dépôt. Dans l'ensemble, ULDiS-200 est un équipement de pulvérisation fiable et efficace, capable de produire des films minces de qualité. Il dispose d'une source jusqu'à 8 kW, d'une chambre à vide à commande électronique et d'une porte d'ouverture avant pour un accès facile, et a été conçu pour fournir un contrôle précis de l'épaisseur et de l'uniformité. Avec ses longs temps de dépôt, sa variété de matériaux et sa large gamme d'accessoires, ULVAC ULDiS-200 convient bien à la production de films épais et minces.
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