Occasion ULVAC Zi-1000 #9354446 à vendre en France

ID: 9354446
Taille de la plaquette: 8"
Sputtering system, 8" Type: Multi chamber (3) Process module controllers (5) Chambers Transfer unit Chiller Cables Monitor rack AC Power box UPS Accessories.
ULVAC Zi-1000 est un équipement de pulvérisation chimique fabriqué par ULVAC Inc. qui est conçu pour le dépôt de couches minces sur une variété de matériaux. Le système est basé sur un plasma à haute fréquence, à courant continu, à basse pression, qui permet de maintenir la vitesse de dépôt à un niveau constant tout au long du processus de dépôt. Zi-1000 est capable de déposer des couches minces sur des semi-conducteurs, des diélectriques, des céramiques et des polymères avec un degré élevé de précision, d'uniformité et de répétabilité. L'unité de pulvérisation est alimentée par une alimentation AC-DC qui peut fournir jusqu'à 1000W de puissance de pulvérisation pour les matériaux cibles de pulvérisation avec une variété de gaz de pulvérisation. Cette puissance est utilisée pour créer un environnement plasma basse pression dans le réacteur qui crée un gaz ionisé qui peut être utilisé pour pulvériser une grande variété de matériaux en couches minces. L'uniformité du dépôt des films est obtenue grâce à une technique propriétaire ULVAC « Super Focus » qui crée une distribution plasma uniforme concentrée et étroite dans le réacteur, permettant une pulvérisation homogène du matériau cible. La machine est également équipée d'un ensemble de moniteurs, de capteurs et de contrôleurs pour s'assurer que tous les paramètres du processus sont maintenus dans la plage souhaitée et que l'ensemble de l'outil fonctionne dans des conditions optimales. De plus, ULVAC Zi-1000 dispose d'un certain nombre de dispositifs de sécurité, dont un moyen de protection contre les surpressions et un interrupteur de circuit de défaillance au sol, qui empêchent toute situation dangereuse de se développer pendant le fonctionnement. Toutes ces caractéristiques font de Zi-1000 un choix idéal pour les procédés avancés de dépôt de couches minces.
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