Occasion UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9202971 à vendre en France
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ID: 9202971
Style Vintage: 1996
Sputtering system
Includes:
Computer control
CTI CRYOGENICS 9600 Compressor
Wafer loader system electrical cabinet and controls
LEYBOLD LEYVAC LV80C Vacuum pump
ADVANCED ENERGY MDX-10X Power supply
BALZERS MSU200 Power supply
HUTTINGER PFG 1600 RF Generator
DAYTON 500 lbs
Capacity overhead hoist with pendant / Rail system
Pumps:
HV Pump LC: Cryo CTI 8F onboard, VAT 2 Point
HV Pump MC: Cryo CTI 8F onboard, VAT Stepless
Fore pump LC / MC: Dryvac 50B
Meissnertrap MC cooled with LN2
Heater:
LC: QUARTZ Heater 2.0 kW
MC: QUARTZ Heater 4.0 kW
Sputtering:
Sources: Planner management AK 517 DC
Power supply: ADVANCED ENERGY Pinnacle, 12 kW
Etch:
Sources: Matchbox
Power supply: PFG 1.6 kW and HUTTINGER
(12) Tooling substrates, 6"
Handling: TECSEM With notch finder
Input: 3x400 VAC (3L+N+PE), 60 Hz, 53 A
1996 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS 502 est un équipement de pulvérisation à haute vitesse RF/DC utilisé pour déposer des couches de couches minces de haute précision sur des substrats. Ce système utilise la puissance RF et DC pour pulvériser des matériaux cibles dans une atmosphère semblable à un bombardement électronique afin de créer un taux de dépôt efficace en utilisant une technique de résonance cyclotron ionique (IC) équilibrée. L'UNAXIS LLS 502 dispose d'une alimentation haute fréquence de 600 kHz, avec une source d'alimentation RF de 150 W et une source d'alimentation en courant continu de 150 kW, permettant un dépôt facile et réglable de films de haute pureté. BALZERS LLS 502 dispose d'une unité de contrôle intégrée et précise qui fournit une large gamme de paramètres variables ainsi qu'une large gamme de modes de processus pour permettre le dépôt d'une variété de couches minces. Son logiciel de pointe permet la surveillance et le contrôle des processus en temps réel, tandis que sa conception mécanique permet des décennies de fonctionnement répétable sans maintenance nécessaire. LLS 502 a une conception de chambre avancée qui permet un contrôle précis des températures de travail jusqu'à 600 ° C, ainsi qu'une large fenêtre de processus pour améliorer les taux de dépôt des métaux et des diélectriques. Cela permet aux chercheurs de tirer parti de différents paramètres de processus pour un dépôt optimal de couches minces. Il dispose également d'une machine de mélange de gaz qui est entièrement automatique et permet un contrôle simultané et cumulé des gaz individuels. De plus, l'UNAXIS/BALZERS LLS 502 propose une gamme de composants optiques pour fournir à l'utilisateur des capacités de contrôle/surveillance, qui comprennent un réflectomètre en temps réel, un microscope optique automatisé, un ellipsomètre automatisé et des capacités de photométrie. Dans l'ensemble, l'UNAXIS LLS 502 est un outil fiable et précis utilisé pour le dépôt de couches de couches minces de haute qualité avec un haut degré de contrôle sur le processus de dépôt. Sa conception sophistiquée garantit un processus de dépôt reproductible et précis et offre des performances de processus exceptionnelles et une flexibilité d'utilisation supérieure.
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