Occasion UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9214650 à vendre en France
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Vendu
ID: 9214650
Style Vintage: 1996
Sputtering system
Environmental conditions:
Out of operation:
Temperature: 10-50°C
Relative humidity: 30-80%
During operation:
Temperature: 18-30°C
Relative humidity: 40-60%
Facilities requirement:
Argon-process: 0.5-1.0 Bar
CDA: 6-8 Bar / 87-116 PSI
N2 Vent: 1.5-2.5 Bar / 21.7-29.0 PSI
N2 Regen (Purge): 1.5-2.5 Bar / 21.7-36.3 PSI
PCW:
Inlet pressure: 4-7 Bar / 58-101 PSI
Outlet pressure: <0.5 Bar
Temperature: 15-25°C
(2) CTI On-Board 8F Cryo pumps
POLYCOLD (Meissener) PFC-400LT Chiller
Temperature range: -120°C to -150°C
Power supply: 415 V
Max full load amp: 8.00 A
PFEIFFER DUO 65 Mechanical pump
PFEIFFER DUO 035D Mechanical pump
(2) Pinnacle power supplies
Output power: 15 kW
IONTECH MPS-5001 Beam current controller
MSU 200 (A 250.1) Power distribution unit
Magnetron (Target-cathode): Ti, Al, Cu, GE, AU
Unit mass flow controller (UFC):
MFC 1: 50cc Ar
MFC 2: 20cc Ar
Chambers:
Load lock chamber (LC): Argon cleaning chamber
Main chamber (MC): Deposition chamber
Vacuum state:
Current MC base pressure: 1.70E-08
Current LC base pressure: 9.30E-08
Current MC ROR: 7.30E-07
Current LC ROR: 1.10E-07
Electrical power:
Supply voltage: 3 x 400 / 230 V (3L + N + PE)
Supply frequency: 50 Hz and 60 Hz
Main ground: <2 Ohm
1996 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS 502 est un équipement de pulvérisation conçu pour diverses applications en couches minces. Le système comprend un porte-cible de cinq pouces de diamètre, une cathode de six pouces et une unité de verrouillage de charge pour le chargement et le déchargement efficaces du substrat. La taille maximale du substrat est de 6 « x 4,75 ». La machine fonctionne à une puissance plasmatique maximale de 360 watts avec une grande uniformité et une faible non-uniformité plasmatique. L'outil de verrouillage de charge surveille en permanence la pression, la température et la vitesse pour le chargement et le déchargement précis des échantillons. L'actif de manipulation de la cible fournit un contrôle de la cible très précis et permet une utilisation maximale de la cible. Le module PECVD du modèle fournit une large gamme de paramètres de processus. Sa chambre de process dispose d'un belljar monobloc avec une vue optiquement accessible. Il est capable de maintenir des températures, des pressions et des gaz précis dans une large gamme de températures basses à moyennes. L'équipement dispose également d'un module de pulvérisation qui est capable de traiter des films minces et épais. Il dispose d'une chambre de procédé à trois zones, d'une chambre à vide cylindrique en acier inoxydable de trois pouces de diamètre intérieur, d'un magnétron à quatre zones et d'un système d'arrêt rapide à trois zones. L'uniformité et l'homogénéité des films pulvérisés peuvent être atteintes avec l'unité d'aimantation, qui permet de contrôler le profil du champ magnétique et de pulvériser uniformément des substrats jusqu'à 6 "de taille. Le contrôle des processus de la machine dispose d'une interface d'opérateur basée sur Windows conçue pour une intégration sans faille des outils. Il dispose d'un atout d'accès à distance sécurisé qui permet d'accéder au modèle depuis n'importe où avec une connexion Internet. L'équipement dispose également de puissantes fonctions de contrôle de processus, y compris des recettes de lots, de profils de processus multiples et de contrôle de puissance variable. Dans l'ensemble, UNAXIS LLS 502 est un système de pulvérisation de haute précision adapté à une large gamme d'applications en couches minces. Il dispose d'un porte-cible de cinq pouces de diamètre, d'une cathode de six pouces et d'une unité de verrouillage de charge pour le chargement et le déchargement efficaces du substrat. Ses modules PECVD, sputter et contrôle de processus offrent une large gamme de capacités de traitement pour une gamme d'applications en couches minces.
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