Occasion UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9217569 à vendre en France

ID: 9217569
Sputtering system.
UNAXIS/BALZERS LLS 502 est un équipement de pulvérisation ultramoderne conçu pour des applications dans la technologie des couches minces pour les substrats photovoltaïques, optiques et autres. Le UNAXIS LLS 502 flexible présente des taux de dépôt élevés, une excellente uniformité et une adhérence uniforme du film, ainsi qu'un chauffage et un refroidissement rapides et des temps de cycle courts pour un contrôle optimal du procédé. BALZERS LLS 502 est idéal pour le dépôt uniforme de différentes couches minces. Il est livré avec une cathode de pulvérisation magnétron basse pression, adaptée au dépôt de films diélectriques, métalliques et d'autres couches minces, le tout dans un même système de pulvérisation. La puissance du pulvérisateur est réglable de 0 à 500 watts, ce qui le rend facile à atteindre les épaisseurs requises rapidement et efficacement. La chambre LLS 502 peut être utilisée pour jusqu'à huit supports de substrat, avec des programmes qui permettent des processus automatisés étape par étape. Il dispose également d'une unité de pompage à vide élevé et d'un manipulateur d'échantillons de type électrode, offrant un excellent environnement sans adhésif. L'UNAXIS/BALZERS LLS 502 peut être amélioré avec des fonctionnalités supplémentaires, comme une option de biais d'échantillon, une chambre perforée, une chambre à gaz de remplissage arrière, et une option de cuisson. Ces composants peuvent être facilement intégrés dans la machine existante pour répondre aux exigences spécifiques d'application. L'UNAXIS LLS 502 dispose également d'un outil de sécurité fiable et de contrôles de fonctionnement précis, ce qui le rend convivial. Tous les paramètres sont faciles à configurer et une vue 3D simulée par ordinateur permet de surveiller en temps réel les conditions du processus de pulvérisation, assurant ainsi des films uniformes et sans contamination. En conclusion, BALZERS LLS 502 est un atout de pulvérisation perfectionné et polyvalent idéal pour diverses applications. Ses taux de dépôt élevés, son excellente uniformité et ses temps de chauffage et de refroidissement rapides en font un outil idéal pour la production de films minces et la recherche.
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