Occasion UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9254074 à vendre en France

UNAXIS/BALZERS LLS 502 est un équipement avancé de pulvérisation ionique utilisé dans le dépôt de couches minces pour des applications semi-conductrices, optiques et médicales. Ce système présente des avantages uniques pour les fabricants, tels qu'une grande homogénéité, un taux de dépôt élevé et une compatibilité avec une gamme de substrats. UNAXIS LLS 502 comprend une alimentation RF, une source d'ions et une chambre contenant une cible de source, des pompes à vide et un porte-échantillons. L'alimentation RF est utilisée pour alimenter la source d'ions, qui est constituée d'une ou plusieurs cathodes magnétron à pulvérisateurs couplées à un canon à ions et laser pour le contrôle du faisceau d'ions. La chambre a un creuset en tungstène comme source cible de maintien et plusieurs ports de pompage. Le porte-échantillons comporte deux supports d'échantillons indexables, ainsi que des fenêtres pour visualiser le processus de dépôt. La source d'ions est utilisée pour créer un plasma d'argon ou d'autres gaz réactifs, qui est introduit dans la chambre de dépôt. La source d'ions produit des ions positifs du matériau source par bombardement par pulvérisation et extraction d'ions. Une tension de polarisation réglable permet de contrôler avec précision la densité de courant d'ions et l'angle de frappe des ions sur le substrat. Le support View/Sample subit 180 ° de rotation tout en étant simultanément préchauffé et exposé au processus de pulvérisation. Une cible de canon à magnétron à haut rendement refroidie fournit une grande zone de pulvérisation, permettant des taux de dépôt plus élevés tout en maintenant un dépôt uniforme de couches minces. BALZERS LLS 502 est conçu pour accueillir des substrats de différentes tailles et matériaux. La géométrie du substrat est automatiquement ajustée et indexée pour chaque substrat individuel. Il offre également une vitesse de dépôt réglable, ce qui permet un contrôle précis du matériau déposé sur le substrat. La machine à pulvériser LLS 502 permet le dépôt polyvalent de couches minces pour un large éventail d'applications. Sa conception spécialisée garantit un dépôt de film uniforme, des taux de dépôt élevés et une compatibilité avec une gamme de substrats. Cet outil avancé est une option fiable pour les fabricants des industries semi-conductrices, optiques et médicales.