Occasion UNAXIS / BALZERS LLS EVO #9167778 à vendre en France

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ID: 9167778
Taille de la plaquette: 5"
Style Vintage: 1999
Sputtering system, 5" (3) Targets: NiCr, NiFe, CoNiFe Currently warehoused 1999 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS EVO est un puissant équipement de pulvérisation conçu pour le dépôt de couches minces. En particulier, il offre des capacités de dépôt avancées pour divers types de films métalliques, y compris l'aluminium, le chrome, le cuivre et le titane. UNAXIS LLS EVO est un système modulaire qui peut être adapté aux besoins individuels de ses utilisateurs. Il est basé sur une source de magnétron linéaire et comprend une fonction unique de surveillance et de contrôle du plasma in situ. L'unité est équipée d'une chambre à vide capable de supporter une pression de base inférieure à 8 x 10-7 mbar. Il est également équipé d'une machine de douche à gaz, permettant à l'outil de fonctionner dans des environnements de gaz réactif. BALZERS LLS EVO permet de manipuler à distance la pression du gaz, la température et le Pl de l'actif, ce qui le rend capable de déposer sur divers substrats, dont l'ITO, le PEN et le silicone. Le modèle offre également une variété de sources cathodiques, y compris des sources multi-éléments comme l'aluminium et le chrome, ainsi que des sources monolithiques comme le titane et le cuivre. LLS EVO dispose d'un équipement de surveillance plasma in situ qui fournit des informations en temps réel pour les paramètres de dépôt, tels que la température du substrat, la pression de base, le système TMS (Target Material Supplied) et la vitesse de dépôt. Cette caractéristique permet d'optimiser le procédé de dépôt de manière ciblée. L'unité offre également une interface utilisateur puissante et ergonomique avec une interface utilisateur graphique intuitive ainsi que des fonctionnalités d'écran tactile. Cela permet aux utilisateurs de contrôler la machine à distance pour gérer efficacement le processus de dépôt. UNAXIS/BALZERS LLS EVO convient à diverses applications cinématographiques, telles que l'ITO, le PEN et la silicone. Il offre une excellente pression de base, ce qui facilite le dépôt de films ultra-minces. En outre, l'outil dispose d'une technologie de refroidissement avancée qui aide à maintenir une température optimale du substrat. L'actif offre également un haut niveau de contrôle des processus, permettant aux utilisateurs de gérer efficacement le processus de dépôt. Dans l'ensemble, UNAXIS LLS EVO est un excellent modèle de pulvérisation pour le dépôt de couches minces.
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