Occasion UNAXIS / BALZERS LLS EVO #9275953 à vendre en France
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ID: 9275953
Style Vintage: 2001
Sputtering system
Standard layout
RF Sputter (14 CM)
Includes:
TRIVAC D66B Rough pump
CTI 8F Cryo HV pump
POLYCOLD PFC400LT
Vent valves: VAP026-A
HV Valves:
VAT 014 2-Point
VAT 064 Servo
Heater:
LC Degas
MC Degas
Signal tower
UPS Power supply
Substrates:
Manual handling
Front side load pins
(12) Substrate sizes
Gases:
Ar / 200 scc
O2 / 100 scc
Ar / 60 scc
N2 / 100 scc
Damaged parts:
Pinnacle power 12 kW
RF Power 1.6 kW
Cryo pump 8F
Handling system removed
Power supply: 3 x 400 VAC, 50/60 Hz, 3 LNPE, 49kVA
2001 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS EVO est un équipement de pulvérisation utilisé pour le revêtement de couches minces, spécialement conçu pour le dépôt de films Ti ou TiN. Le système de pulvérisation est constitué d'une commande de mouvement à trois axes et de deux modules sources de pulvérisation. Le pulvérisateur exécute les mouvements des axes X et Y jusqu'à 200 mm avec une précision élevée ± 0,1 μ m. Le déplacement du troisième axe (axe Z) est assuré au moyen d'une machine élévatrice. Toutes les coordonnées sont gérées par un contrôleur central, qui supporte également la séquence de processus. L'outil de pulvérisation dispose de deux ensembles de sources de pulvérisation avec six chambres de processus indépendantes. Chaque module de source de pulvérisation est équipé de deux sources de pulvérisation magnétron à jour, d'alimentations de processus de haute précision et d'une unité de commande qui gère le processus de pulvérisation. Selon le type de matériau à couche mince, des puissances allant jusqu'à 1kV pic sont fournies à la chambre de pulvérisation. L'actif de pulvérisation est capable de traiter tout matériau avec des paramètres de processus de dopage variables pour obtenir des résultats optimaux en couches minces. L'UNAXIS LLS EVO surveille activement les paramètres du processus dans la chambre de pulvérisation pendant le traitement. Différents paramètres de processus tels que le temps de pulvérisation, la puissance de pulvérisation ou le débit de gaz peuvent être programmés pour l'ensemble du modèle ou des sources de pulvérisation individuelles. Le processus de pulvérisation peut être surveillé en temps réel à l'aide de l'équipement intégré d'enregistrement des données. Cela permet de maintenir le procédé de dépôt en couches minces de haute qualité tout au long du processus de fabrication. Le système de gaz intégré fournit efficacement des gaz réactifs aux sources de pulvérisation. Le débit et la pression des gaz sont précisément régulés pour créer le processus de dépôt souhaité. L'unité à gaz est équipée d'un contrôle manuel et automatique du débit, ainsi que d'une détection de fuites et d'alarmes préprogrammées pour assurer un fonctionnement stable et fiable. BALZERS LLS EVO pulvérisateur est un outil de pulvérisation très avancé capable d'effectuer le dépôt précis de couches minces. Son actif intégré de journalisation des données, des alimentations de processus de haute précision, et un contrôle de mouvement spécialement conçu permettent d'obtenir les meilleurs résultats dans le dépôt de n'importe quel matériau.
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