Occasion UNAXIS / BALZERS LLS EVO #9296436 à vendre en France

UNAXIS/BALZERS LLS EVO est un système PVD (Physical Vapor Deposition) conçu pour le dépôt de couches minces sur des substrats. Cette unité utilise le dépôt physique en phase vapeur, c'est-à-dire que les couches minces sont créées à partir de particules individuelles de matière, plutôt que par dépôt chimique en phase vapeur, ce qui implique généralement la réaction de précurseurs gazeux. UNAXIS LLS EVO est une machine à pulvériser modulaire qui utilise la technologie HIPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) pour assurer un minimum d'utilisation des matériaux et de temps de dépôt. HIPIMS a la capacité de générer plus d'ions énergétiques que la pulvérisation magnétron traditionnelle, permettant un dépôt de pulvérisation plus efficace. BALZERS LLS EVO dispose également de sources de plasma facultatives, y compris des alimentations en courant continu (DC) et haute fréquence (HF), ainsi qu'une chambre d'environnement contrôlée. Cela permet d'assurer l'uniformité des dépôts et de minimiser les dommages au contact des substrats délicats. Tous ces composants permettent un contrôle précis du procédé et des caractéristiques de dépôt des couches minces produites. LLS EVO est capable d'atteindre une grande variété de cibles de dépôt, y compris le revêtement uniforme et conforme, la nitruration des nuages, la conversion tribochimique, le revêtement haute densité et l'encapsulation à haut rapport d'aspect. L'outil dispose également de fonctionnalités avancées de contrôle de processus, permettant l'optimisation des paramètres de processus et la mesure en temps réel des propriétés du film. Cela donne des résultats de processus répétables et des rendements de processus accrus. L'atout LLS EVO UNAXIS/BALZERS est idéal pour les applications nécessitant des films minces de haute performance, y compris les dispositifs MEMS, les applications optiques, les applications semi-conductrices et les convertisseurs catalytiques automobiles. Ce modèle offre des avantages uniques en termes de capacités de processus de dépôt et de qualité du dépôt en couches minces, ce qui le rend adapté à un large éventail d'exigences d'application.