Occasion UNAXIS CLC200 #293742100 à vendre en France

L'UNAXIS CLC200 est un équipement de pointe qui incarne les dernières avancées dans la technologie de dépôt de couches minces. Développé par l'UNAXIS, leader du marché des solutions de revêtement sous vide, CLC200 est conçu pour répondre aux exigences exigeantes des industries des semi-conducteurs, de l'optique et de l'affichage. Ce système de pulvérisation haute performance offre une polyvalence, une précision et une efficacité exceptionnelles pour un large éventail de procédés de dépôt, ce qui en fait un outil indispensable pour des applications de recherche et de production innovantes. Au cœur de l'UNAXIS CLC200 se trouve sa technologie avancée de pulvérisation magnétron, qui permet un dépôt très contrôlé et uniforme de couches minces sur des substrats. L'unité présente une configuration double magnétron, permettant le dépôt simultané de matériaux multiples avec des compositions et des propriétés différentes. Cette capacité est essentielle pour créer des structures multicouches complexes et des revêtements sur mesure avec des caractéristiques optiques, électriques ou mécaniques spécifiques. CLC200 est équipé d'une machine de contrôle des procédés de pointe qui permet une surveillance et un réglage précis des principaux paramètres de dépôt en temps réel. Cela garantit une uniformité constante de la qualité et de l'épaisseur du film sur les grandes surfaces du substrat, minimisant les défauts et améliorant la performance globale du produit. L'outil dispose également de capacités automatisées de gestion des recettes et d'optimisation des processus, rationalisant le fonctionnement et maximisant la productivité. L'un des principaux atouts de l'UNAXIS CLC200 est sa souplesse à s'adapter à une grande variété de tailles et de formes de substrat. L'actif supporte à la fois les modes de traitement par lots et par substrat unique, permettant le dépôt efficace de couches minces sur des substrats de matériaux, de tailles et de géométries différentes. Cette polyvalence rend CLC200 bien adapté aux activités de recherche et développement ainsi qu'aux applications de fabrication à haut volume. Outre son contrôle et sa flexibilité exceptionnels, l'UNAXIS CLC200 est conçu pour un débit et une fiabilité élevés. Le modèle est conçu avec des composants robustes et des chambres à vide qui assurent un fonctionnement stable et un temps d'arrêt minimal. Cette fiabilité est essentielle pour obtenir des résultats cohérents et reproductibles dans des environnements de production à haut volume, où la disponibilité et le rendement sont des facteurs essentiels de succès. CLC200 est également équipé de dispositifs de sécurité avancés et conforme aux normes de l'industrie pour les systèmes à vide et les équipements de traitement des semi-conducteurs. L'équipement comprend de multiples niveaux d'interconnexions, d'alarmes et de systèmes de surveillance afin de prévenir les accidents et d'assurer la sécurité des opérateurs pendant l'exploitation. En outre, l'UNAXIS CLC200 est conçu pour répondre à des exigences strictes en matière de salle blanche, avec une faible production de particules et un entretien facile pour un risque de contamination minimal. Dans l'ensemble, CLC200 établit une nouvelle norme pour les systèmes de pulvérisation avec sa technologie de pointe, son contrôle de précision, sa polyvalence et sa fiabilité. Qu'il soit utilisé pour des activités de R-D ou des procédés de fabrication à haut volume, ce système fournit aux utilisateurs les outils dont ils ont besoin pour obtenir des résultats de dépôt de couches minces supérieurs de façon cohérente. Avec ses performances exceptionnelles et ses caractéristiques avancées, UNAXIS CLC200 est un choix de choix pour les industries nécessitant des revêtements précis et uniformes pour leurs produits.