Occasion UNAXIS Clusterline 200 #9189483 à vendre en France

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ID: 9189483
Style Vintage: 2000
Sputtering system Turbo pumps: TMH 521P (2) TMH 520 TMH 260 Brooks robot and arm-set PN: 201600-01R Brooks load lock-drive/controller PN: 003-9010-03 Turbo pumps and controllers: (3) TCP 380, DCU300 ARQ and magnet-system (Al-chamber) PN: ARQ 151 D31, MB300DR magnets Load-lock with cass system, 6" Transfer camber turbo pump Sputter etch chamber with turbo pump Sputter chamber Heated lamp Rotation magnets with turbo pump Magnetron has rotation magnets Sputtering of ALU and ALU nitride Dual arm robot Robot included Spare parts: O-Ring Metal rings Ceramic chamber Transport brackets 2000 vintage.
La Clusterline 200 de l'UNAXIS est un équipement de pulvérisation qui offre une technologie de dépôt de film de précision pour une variété de substrats, y compris des substrats en verre, en céramique, en plastique et en métal. Ce système polyvalent est conçu pour la flexibilité et la production sur des emplois de taille moyenne à grande. Il offre une fonction de contrôle automatisé des processus qui produit un dépôt uniforme et de haute qualité de couches minces sur les substrats. La clusterline 200 utilise un procédé de fabrication de haute qualité qui commence par la préparation du substrat. Le substrat est ensuite transporté à travers l'unité dans une chambre à vide où une source magnétron UNAXIS génère des faisceaux d'énergie fortement focalisés. Ces faisceaux bombardant le substrat, ils provoquent la pulvérisation de particules de la source et forment un film mince sur le substrat cible. Afin d'obtenir les meilleurs résultats possibles, le processus est surveillé en permanence par la fonction de contrôle automatisé des processus. La Clusterline 200 de l'UNAXIS offre également une plate-forme intégrée de suivi des processus qui garantit un processus de travail fiable, efficace et contrôlé. La plateforme intégrée de suivi des processus permet aux utilisateurs de surveiller les paramètres de la machine, de diagnostiquer les problèmes qui se posent et d'ajuster le processus pour des performances optimales. De plus, la Clusterline 200 offre des performances supérieures avec sa technologie de pulvérisation avancée. Sa technologie avancée de pulvérisation par pulvérisation utilise une technologie innovante d'impulsions sous pression pour limiter la quantité d'atomes ionisés qui sont générés. Cela aide à réduire la rugosité superficielle et la croissance cristalline, tout en permettant le dépôt de couches minces sur des pièces petites et complexes. Enfin, la Clusterline 200 de l'UNAXIS peut accueillir diverses températures et pressions de substrat pour maximiser l'efficacité du procédé. Cela permet de minimiser la charge de film sur les substrats et de minimiser la contrainte résiduelle. En conclusion, Clusterline 200 est un puissant outil de dépôt de pulvérisation haute performance qui offre polyvalence, précision et contrôle robuste des processus. Son contrôle de procédé avancé et sa technologie de pointe le rendent idéal pour le dépôt sur une variété de substrats.
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