Occasion UNAXIS Clusterline 300 #293636041 à vendre en France

L'UNAXIS Clusterline 300 est un équipement de pulvérisation ultramoderne conçu pour des applications de dépôt de couches minces de haute performance dans la fabrication de semi-conducteurs et de microélectroniques. Ce système de pointe combine plusieurs chambres de dépôt par pulvérisation dans une configuration groupée pour permettre un processus de production homogène et efficace. L'unité Clusterline 300 est équipée d'un maximum de six chambres de pulvérisation individuelles qui peuvent être configurées pour diverses techniques de dépôt, y compris la pulvérisation magnétron, la pulvérisation par faisceau d'ions et la pulvérisation réactive. Cette flexibilité permet aux utilisateurs de déposer un large éventail de matériaux, tels que les métaux, les oxydes, les nitrures et les alliages, avec un contrôle précis de l'épaisseur du film, de la composition et de la microstructure. Chaque chambre de pulvérisation de la Clusterline 300 de l'UNAXIS est équipée de sources magnétron de haute puissance qui génèrent un plasma pour pulvériser le matériau d'une cible sur un substrat. La machine est capable de pulvériser des matériaux métalliques et non métalliques, offrant une polyvalence pour diverses applications dans l'industrie des semi-conducteurs. De plus, la Clusterline 300 dispose de capacités avancées de contrôle des procédés, y compris la surveillance en temps réel des taux de dépôt, l'uniformité des films et leur épaisseur, afin d'assurer des résultats cohérents et reproductibles. L'une des principales caractéristiques de l'outil Clusterline 300 de l'UNAXIS est sa conception modulaire, qui permet aux utilisateurs de personnaliser facilement l'actif pour répondre à leurs besoins spécifiques en matière de processus. Le modèle peut être configuré avec des chambres supplémentaires pour le dépôt séquentiel ou le recuit in situ, ainsi que des outils de métrologie intégrés pour la caractérisation des films en ligne. Cette évolutivité rend la Clusterline 300 idéale pour les environnements de recherche et de production, où la flexibilité et la productivité sont essentielles. L'équipement Clusterline 300 de l'UNAXIS est conçu avec un haut degré d'automatisation pour rationaliser le fonctionnement et minimiser les temps d'arrêt. Le système est équipé d'un contrôle logiciel avancé pour la gestion des recettes, l'optimisation des processus et l'analyse des données, permettant aux utilisateurs de programmer et d'exécuter facilement des séquences de dépôt complexes avec une intervention manuelle minimale. Cette automatisation augmente également le débit et réduit le risque d'erreur humaine, ce qui augmente les rendements et améliore la fiabilité des procédés. En plus de ses capacités de dépôt avancées, l'unité Clusterline 300 est également conçue pour faciliter la maintenance et l'entretien. La machine dispose d'une architecture modulaire qui permet un accès facile aux composants critiques, tels que la chambre à vide, les matériaux cibles et les sources de pulvérisation, pour l'entretien de routine et le dépannage. Cette conception minimise les temps d'arrêt de l'outil et assure une performance optimale sur toute la durée de vie de l'actif. Dans l'ensemble, la Clusterline 300 de l'UNAXIS est un modèle de pulvérisation électrique polyvalent et fiable qui offre une large gamme de capacités de dépôt pour la fabrication de semi-conducteurs et de microélectroniques. Avec son contrôle avancé des procédés, sa conception modulaire, ses fonctionnalités d'automatisation et sa facilité d'entretien, la Clusterline 300 est une solution rentable pour des environnements de production à haut volume qui exigent précision, répétabilité et efficacité dans les processus de dépôt de couches minces.