Occasion VARIAN 3180 / 3190 #9009369 à vendre en France

VARIAN 3180/3190 est un équipement de pulvérisation hautement efficace et fiable conçu pour des applications de haute précision telles que la microélectronique et les films minces. Le système est capable de produire des dépôts à haute pureté, à basse température et à haut débit d'un large éventail de surfaces et de matériaux. Les sources de pulvérisation sont faciles à utiliser et offrent un excellent contrôle du processus de dépôt. L'unité dispose également d'une capacité à haute température permettant la croissance cristalline et la sélection de différents modes de dépôt. 3180/3190 offre une chambre de 60 cm de diamètre qui peut accueillir jusqu'à 4 sources de pulvérisation. La chambre dispose d'une plage de température allant jusqu'à 600 ° C et une pression de 10-7 torr. Une machine de recirculation à air forcé est incorporée dans la chambre qui maintient un environnement uniforme pour un dépôt précis. La chambre comprend également un outil de contrôle de processus in situ qui surveille l'environnement atmosphérique pour détecter tout changement induit par le processus. Les sources de pulvérisation, disponibles en 8 "et 6" de diamètre, fonctionnent avec des substrats jusqu'à 12 "de taille. Chaque source de pulvérisation est équipée d'une source magnétron qui incendie des ions argon au niveau du matériau cible pour former une couche protectrice de matériau sur le substrat. Les sources sont également conçues pour un dépôt uniforme à haut débit, ainsi qu'une variété de capacités de processus supplémentaires. L'actif comprend également un logiciel de contrôle des processus, qui permet de créer des recettes de processus personnalisées et de les modifier au besoin. Cela permet des dépôts précis et répétables de métaux, d'alliages et d'autres matériaux. Il permet également une utilisation très efficace de vos sources de pulvérisation en créant et en surveillant le processus de dépôt. VARIAN 3180/3190 est un modèle fiable et très efficace pour les applications de dépôt et de pulvérisation. Les puissantes sources de pulvérisation, le système de contrôle des processus in situ et le logiciel de contrôle des processus permettent le dépôt précis et répétable de divers matériaux avec une grande précision. Cette unité assure un excellent contrôle du processus de dépôt et est idéale pour des applications telles que la microélectronique et les couches minces.