Occasion VARIAN 3190 #9269838 à vendre en France

VARIAN 3190 est un équipement avancé de pulvérisation magnétron à courant continu (DC), conçu pour des applications précises de dépôt en couches minces dans les sciences des matériaux, la recherche et le développement. Il a la capacité de déposer de façon indépendante ou simultanée jusqu'à quatre matériaux, ainsi que de contrôler la distance entre la cible et le substrat et de détecter l'érosion de la cible au point d'extrémité. 3190 peut contenir jusqu'à quatre cibles et utilise une configuration puissante à trois magnétrons pour optimiser l'uniformité des films et les taux de dépôt. Sa conception modulaire unique permet une installation rapide de magnétrons multiples et une interchangeabilité facile pour les sources de pulvérisation. La configuration multi-magnétron de pulvérisation est préférée dans les environnements de recherche et développement, car elle permet de compenser les effets de désalignement et de charge de la source. L'alimentation propriétaire en courant continu Kernex™ sur le système a des capacités de commande jusqu'à 700 watts, permettant un contrôle de précision de la vitesse de pulvérisation et de la tension de polarisation. Les alimentations entièrement isolées fournissent une source d'énergie propre et silencieuse à tous les magnétrons, ce qui permet de contrôler avec précision les débits de pulvérisation. Le circuit de conditionnement aide à éliminer les problèmes d'uniformité d'arc et de pulvérisation causés par les pointes de puissance. La géométrie de la chambre, associée à l'unité de pompage à vide, assure la stabilité et l'uniformité requises pour les exigences les plus exigeantes en matière de dépôt de substrat et de croissance de couches minces. Sa chambre rapide d'évacuation et de contrôle de pression est l'un des plus avancés de l'industrie. De plus, la machine surveille et maintient une distance stable entre la cible et le substrat pendant le processus de dépôt, assurant un dépôt uniforme en couches minces avec une interférence minimale de l'érosion de la cible. VARIAN 3190 est convivial, avec une architecture de plate-forme ouverte robuste pour une intégration facile dans les systèmes de dépôt de matériaux existants. Cela fait de l'outil un atout de pulvérisation idéal pour une variété d'applications de la science des matériaux, de la recherche et du développement. Ses capacités de dépôt indépendantes ou simultanées, le contrôle de distance de la cible au substrat et le contrôle de l'érosion de la cible le rendent idéal pour la fabrication de dispositifs photoniques, de super-réseaux et de semi-conducteurs.