Occasion VARIAN 3280 #154113 à vendre en France
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Vendu
ID: 154113
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1985
Sputtering system, 6"
Sources: (1) Mini Quantum, (1) CMI, (1) CMII
Specifications:
Dedicated 6" wafer handling capability
Throughput: 45 wafer/hour for 1-micron aluminum alloy depositions
Film thickness uniformity:
± 5% across 6" wafer for aluminum alloys, excluding outer 0.0625" of wafer
± 5% wafer to wafer and cassette to cassette for aluminum alloys, when measured at the wafer center
Vacuum system:
Process chamber:
VARIAN Cryostack-12FA closed-loop helium cryopump
12" diameter pumping stack with integral fixed aperture
Load lock:
Pumped initially with 27 cfm direct drive mechanical pump to a pre-selected pressure
When pressure set-point is reached, crossover to the cryopump occurs for continued load lock pumping
Process chamber base pressure: 5 x 10^-7 Torr
Deposition source:
Type: DC dual cathode conical magnetron with independently powered cathodes
Orientation: horizontally mounted sideways sputtering
Typical deposition rates:
Aluminum alloys: 10,500 Angstroms/min
Refractory metal silicides: 3,600 Angstroms/min
Cathodes:
Outer: 9.7" diameter
Inner: 5.4" diameter
Cathode life: 3000 1-micron aluminum alloy depositions/cathode set
Deposition power supply:
(2) Power supplies provided for each sputter deposition source
Operating range:
12kW maximum for outer cathode
3kW maximum for inner cathode
Cathode power ratios: 4 ratios can be selected to optimize uniformity throughout cathode life
Maximum cathode output current: 23A
Open circuit voltage: 1400V
Substrate heaters:
Type: gas conduction, resistive heater element
Maximum temperature: 400°C
Temperature control: Chromel-alumel thermocouple closed-loop feedback to EUROTHERM temperature controller
Facilities requirements:
Electrical power:
Main system:
200/208V, 35A, 50/60Hz, 3-phase
380V, 20A, 50/60Hz, 3-phase
480V, 16A, 50/60Hz, 3-phase
Power supplies:
380V, 140A, 50/60Hz, 3-phase
480V, 112A, 50/60Hz, 3-phase
Air: 80 to 120 psi at 10 cfm
Water: 8 gpm at ≤ 20°C
Dry nitrogen: 5 L/min at 20 psi
Argon: 2 Torr-liters/sec
1985 vintage.
VARIAN 3280 est un équipement de pulvérisation qui peut produire des films minces de divers matériaux, tels que les métaux, les semi-conducteurs et les diélectriques. Le système utilise des pulvérisations thermiques réactives et non réactives pour enrober des substrats dans une gamme de configurations de couches minces, et il est capable d'obtenir des résultats précis et cohérents. L'unité de pulvérisation fonctionne sous vide et peut produire des films minces et uniformes sur des substrats de grande surface. La machine dispose d'un contrôle convivial, permettant un contrôle complet des paramètres et permettant aux utilisateurs d'ajuster les caractéristiques de pulvérisation pour les processus personnalisés de dépôt de couches minces. L'outil fournit des réglages de puissance précis et une épaisseur de film très répétable pour permettre un contrôle maximum. 3280 utilise un procédé de pulvérisation magnétron, qui permet des vitesses d'apposition élevées, des qualités de couches minces supérieures, et la capacité de contrôler les environnements de salles de dépôt de film d'une manière rentable. L'actif comprend une alimentation magnétron et un circuit de commande qui permet de contrôler la vitesse de pulvérisation. En utilisant un procédé de pulvérisation automatique, les utilisateurs peuvent programmer différents paramètres de pression, de vitesse de dépôt, de mélanges de gaz et de positions de substrat. Le modèle offre un niveau inégalé de précision et de répétabilité, et son uniformité de revêtement assure le plus haut niveau de qualité de produit en couches minces. En outre, l'équipement est facile à mettre à niveau, permettant aux utilisateurs d'obtenir des performances de pulvérisation supérieures avec un coût minimal. VARIAN 3280 est le système de pulvérisation ultime pour le dépôt de couches minces, et est idéal pour les applications nécessitant un dépôt précis de couches minces. L'unité est compacte, fiable et abordable, permettant aux utilisateurs d'obtenir les résultats de pulvérisation dont ils ont besoin d'une manière efficace et rentable.
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