Occasion VARIAN Chamber for M 2000 #293661352 à vendre en France

VARIAN Chamber pour M 2000 est un équipement de pulvérisation conçu pour les applications de dépôt en couches minces. Il s'agit d'un système de dépôt de qualité R&D capable de déposer sur de grandes zones avec une grande cohérence et uniformité. L'unité est idéale pour le dépôt d'une variété de matériaux tels que métaux, diélectriques et organiques. Chambre pour M 2000 dispose de deux carrousels de 6 pouces x 6 pouces et deux carrousels de 8 pouces x 8 pouces qui sont contrôlés par une interface utilisateur intuitive. La machine utilise un outil cathodique classique et un mécanisme cathodique blindé pour assurer une homogénéité et une répétabilité optimales. Les carrousels de plaquettes sont conçus pour assurer un alignement et un parallélisme précis des plaquettes lors des opérations de pulvérisation. En outre, l'actif dispose également d'un port flexible de source de vide de wafer qui peut être utilisé pour introduire des sources de gaz lors des opérations de pulvérisation. VARIAN Chamber pour M 2000 comprend également une armoire de commande unique SubSystem 2000 conçue pour maximiser la performance et l'utilité du modèle. L'équipement comprend un logiciel qui permet l'accès à distance et le contrôle du système à partir d'un PC externe. Ce logiciel offre également des diagnostics avancés et des utilitaires unitaires. La chambre M 2000 utilise un obturateur mécanique rotatif de précision pour assurer une vitesse de dépôt uniforme sur la surface de la plaquette sans avoir besoin de masques de protection supplémentaires. La machine dispose également d'une capacité de purge complète de l'azote pour des processus de nettoyage rapides et efficaces. En outre, l'outil dispose d'une option de gravure sèche, ainsi que la détection de couture haute résolution pour des processus de contrôle de qualité efficaces. VARIAN Chamber pour M 2000 comprend également une alimentation RF haute puissance avec des capacités de contrôle et de surveillance précises. Il offre également une large gamme de sources d'ions pulvérisateurs pour présenter une variété de films. Enfin, il comprend également une multitude d'autres caractéristiques telles que le dépôt double face, un détecteur de pression réglable et une fenêtre de sécurité acrylique pour une sécurité accrue et des opérations efficaces. En conclusion, Chamber for M 2000 est un actif avancé de pulvérisation de qualité R&D conçu pour déposer efficacement des films minces avec une fidélité et une répétabilité élevées. Le modèle offre également une multitude de fonctionnalités supplémentaires telles qu'une armoire de commande SubSystem 2000, un obturateur mécanique rotatif de précision, et une alimentation RF haute puissance pour assurer une performance optimale.