Occasion VARIAN E17045261 #9126495 à vendre en France

VARIAN E17045261 est un équipement de pulvérisation haute performance idéal pour les applications de dépôt en couches minces. Ce système est une technologie de pulvérisation assistée par cathode qui offre une uniformité de film avancée, une faible consommation d'énergie, et une meilleure longévité opérationnelle pour des performances maximales. E17045261 est une unité de pulvérisation à double magnétron à source unique qui utilise une source de faible puissance très efficace pour déposer efficacement des films sur des substrats. Cette machine est équipée d'un ensemble de sources multipoches avancé, permettant le dépôt simultané de matériaux de sources multiples dans la chambre de dépôt. L'utilisation de sources multiples élimine la contamination d'une source à l'autre, contrôlant ainsi l'épaisseur de dépôt du film sur le substrat. La source multi-poches fournit également un haut degré d'uniformité de processus à travers le substrat. Cet outil est conçu pour optimiser les rendements de production grâce au contrôle avancé des IC source/catode et du contrôle de la température, contribuant à garantir la précision des propriétés du film, ainsi qu'à réduire les temps d'arrêt ou les coûts d'exploitation. En contrôlant la puissance de la source, le courant, la tension et la température, VARIAN E17045261 dépose efficacement des films avec une uniformité parfaite du film et une excellente couverture d'étape, ce qui donne des propriétés mécaniques et électriques supérieures. L'actif comprend également une chambre d'assistance aux pulvérisateurs, qui permet de mieux contrôler la croissance des films à base de silicium. Cette fonction de chambre d'assistance des pulvérisateurs aide à contrôler l'oxydation des pellicules, permettant une utilisation plus efficace des matériaux. En plus, le fait de bafouiller - aide la chambre réduit le besoin pour l'excès les précurseurs de SiSiO2, ayant pour résultat les taux de croissance extrêmement reproductibles partout dans le processus de déposition. E17045261 est un excellent choix pour les applications de dépôt en couches minces, car il combine un contrôle avancé des procédés et une couverture efficace des substrats avec des coûts opérationnels faibles. Ce modèle présente également d'importants avantages en termes d'économies de matériaux et d'uniformité des procédés, offrant un dépôt efficace de caractéristiques même complexes avec des cycles de dépôt plus rapides, ce qui entraîne une augmentation du débit et une réduction des coûts. La confiance accrue en contrôle de cet équipement garantit que les films peuvent être déposés avec une précision quasi parfaite et d'excellentes propriétés mécaniques et électriques.