Occasion VARIAN / INTEVAC MDP-1100 #293596074 à vendre en France

ID: 293596074
Sputtering system Without controller Multiple cryo pumps and accessories.
VARIAN/INTEVAC MDP-1100 est largement utilisé pour le dépôt en couches minces dans diverses applications telles que l'affichage, les dispositifs semi-conducteurs et les dispositifs optoélectroniques. Ce système est un outil polyvalent capable de déposer divers matériaux, notamment des métaux, des isolants inorganiques et des oxydes, en utilisant un large éventail de paramètres de dépôt. L'unité est composée de plusieurs parties, les composants principaux étant l'alimentation RF, la chambre, la cathode de pulvérisation, la machine à vide et la source d'énergie. L'alimentation RF est utilisée pour créer et maintenir un plasma basse fréquence dans la chambre. Ce plasma basse fréquence est alors utilisé pour pulvériser efficacement du matériau cible hors de la cathode de pulvérisation et sur le substrat pour former le film mince désiré. Le plasma est créé en contrôlant les tensions continues négatives et positives qui modulent l'énergie nécessaire pour casser le matériau pulvérisé. La chambre se compose d'une base, d'un bocal et d'un ensemble de vannes. La base permet le fonctionnement de l'outil tout en maintenant l'environnement contrôlé à l'intérieur de la chambre. La cloche est généralement en aluminium à faible conductivité et peut retenir les matériaux à pulvériser sans interférence de l'environnement ambiant. De plus, les vannes peuvent être utilisées pour introduire, extraire ou recycler une variété de matériaux pour la pulvérisation et le filmage. La cathode de pulvérisation est constituée d'une forme relative au matériau cible jouant le rôle de porte-cible, soit monté sur un socle, soit dans un élément de pulvérisation rotatif. Il est constitué du matériau cible et d'une structure support du magnétron. Le magnétron aide à créer le plasma nécessaire au processus de pulvérisation. Le modèle à vide est utilisé pour maintenir la pression appropriée à l'intérieur de la chambre. Il se compose de plusieurs composants, tels que la pompe à rugosité, les turbopropulseurs, la pompe à cryo et la pompe mécanique, qui sont utilisés pour maintenir la pression de vide nécessaire au procédé de pulvérisation. La source d'énergie fournit de l'énergie électrique à l'alimentation RF et aux autres composants de l'équipement. Selon les besoins du procédé de pulvérisation, la tension continue ou alternative peut être fournie. En résumé, VARIAN MDP-1100 est un système puissant et polyvalent de pulvérisation capable de déposer une large gamme de couches minces. Les composants de l'unité travaillent à l'unisson pour assurer le meilleur résultat de pulvérisation, ce qui en fait l'un des systèmes les plus populaires pour les applications de dépôt.
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