Occasion VARIAN M 2000 #9246300 à vendre en France

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VARIAN M 2000
Vendu
ID: 9246300
Sputtering system.
VARIAN M 2000 est un équipement technologique de pointe utilisé dans diverses applications de recherche et industrielles. C'est un système de pulvérisation puissant conçu pour une efficacité maximale avec une zone cible réglable pour le dépôt précis de films ou d'électrodes. Cette unité de pulvérisation fonctionne en utilisant un gaz approprié, généralement de l'Argon, qui est ionisé par l'ajout d'une polarisation haute tension. Un magnétron projette alors un flux rapide et concentré de particules ioniques qui bombardent la zone cible pour passiver ou enrober la surface. Le substrat est monté sur un mandrin rotatif et se compose d'une grande chambre pour le revêtement à l'échelle de production avec une zone porte-cible spécifiquement conçue pour être utilisée dans les applications plasmatiques. Les composants principaux de la machine comprennent une bobine d'induction, un transformateur, une source d'ions, un générateur RF, un outil d'échappement et un moniteur de courant d'ions. Toutes ces pièces sont intégrées à la machine pour le contrôle complet du processus de revêtement du substrat. Les principaux avantages de VARIAN M2 000 par rapport à d'autres systèmes comprennent ses sources d'énergie réglables, permettant un meilleur ajustement des paramètres de dépôt ; un fonctionnement fiable avec un faible risque de défaillance opérationnelle et une augmentation du débit de production ; et une variété de tailles de chambres qui accueillent une variété de substrats. La conception globale de M 2000 est simple et robuste avec une qualité de processus élevée et une opération robuste. Cet actif a une variété d'applications potentielles, allant des industries médicales, automobiles, industrielles et semi-conductrices. Ses différentes applications comprennent la fourniture de propriétés physiques et électriques aux surfaces, le dépôt de couches minces et la fabrication avancée d'affichages. En conclusion, le modèle M2 000 est une solution avancée et efficace conçue pour de nombreuses applications et est capable de fournir un revêtement fiable et uniforme à une qualité de procédé élevée. Il a l'avantage d'avoir des sources d'énergie réglables et la variété de la taille de chambre qui le rendent approprié pour la plupart des substrats, et un fonctionnement robuste est utile pour maximiser le débit de production.
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