Occasion VARIAN / NOVELLUS M2000 #188108 à vendre en France
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Vendu
ID: 188108
Metal sputtering system
Chamber Types:
4 PVD
2 Vacuum Loadlocks (25 wf cassette)
1 Degas
1 Cool
1 Orienter
1 Etch Chamber
1 Cool Chamber
M2000 PVD Processes
A1: Degas (Ar only)
A2: Pre-sputter Etch (Single Frequency RF, Ar only)
A3: Ti, clamped, heated (Ar only)
A4: Ni, unclamped, heated (also Co, Ar only)
A5: Al/0.5% Cu, clamped, heated (Ar only)
A6: IMP Ti, IMP TiN, unclamped, heated (no shutter, Ar, N2 gases)
A1: Cool (Ar only)
Applications:
Ni silide Dep, Liner Dep, Al Metal 1 Dep
Powered off
1995-1998 vintage.
VARIAN/NOVELLUS M2000 est un équipement de pulvérisation haute performance conçu pour le dépôt de couches minces dans des applications semi-conductrices avancées. Ce système se compose de trois modules différents : la chambre de pulvérisation, le pistolet à plasma impulsionnel et la plate-forme matérielle. Le Sputter Chamber est le cœur de l'unité VARIAN M2000 et est utilisé pour les bombardements ioniques et le dépôt de couches minces sur des plaquettes. La chambre est équipée de deux chambres de processus pour jusqu'à cinq cibles indépendantes pour un maximum de temps de disponibilité. La chambre utilise une source haute performance DC/RF Dual Magnetron Sputter avec des niveaux de tension, de fréquence et de puissance variables pour le dépôt et la gravure. Cette machine offre une excellente uniformité, stabilité et consistance lors des opérations de pulvérisation. Le pistolet à plasma Impulse est un module additionnel qui permet le bombardement ionique et le nettoyage plasma à basse température. Cet outil est capable de gravure par pulvérisation, nettoyage de surface, activation et gravure chimique sans impact sur l'épaisseur du film ou la microstructure. De plus, le pistolet à plasma Impulse est adapté aux débits de gaz bas de gamme pour le contrôle en boucle fermée, augmentant la répétabilité et la reproductibilité des processus. La plateforme matérielle joue un rôle essentiel dans la performance et l'efficacité de l'actif NOVELLUS M 2000. La plateforme offre une conception modulaire pour différentes configurations de processus et une évolutivité pour les technologies de processus avancées. M2000 offre un modèle de contrôle PC haute performance avec une interface conviviale pour la surveillance des processus et la collecte de données. En outre, la plate-forme prend en charge des logiciels de conception personnalisés pour l'optimisation des paramètres du processus, l'intégration des outils, le diagnostic des défauts et l'optimisation du rendement/processus. Dans l'ensemble, VARIAN/NOVELLUS M 2000 est un équipement perfectionné de pulvérisation à base de courant continu/RF conçu pour assurer une excellente qualité de dépôt de film, uniformité et débit. Ce système offre une répétabilité de processus exceptionnelle pour la fabrication et la production de dispositifs semi-conducteurs avancés.
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