Occasion VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB 830 #9274344 à vendre en France
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ID: 9274344
Taille de la plaquette: 8"
Sputtering system, 8"
CTI-CRYOGENICS OB-8
(3) Chambers
TiN.
VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830 est un équipement sophistiqué conçu pour une utilisation dans une variété d'applications semi-conductrices, médicales et industrielles. Il offre un moyen fiable et efficace de déposer une gamme de couches minces sur des substrats. Le système de pulvérisation est constitué d'une enceinte à vide à double chambre avec des composants intégrés pour fournir un environnement contrôlé pour le dépôt précis d'une large sélection de films sur des composants comprenant des écrans plats, des dispositifs optiques, des matériaux magnétiques, des puces à mémoire semi-conductrices et des transistors à couches minces (TFT). TEL MBB 830 comprend une source d'ions à faible énergie qui fournit des taux de dépôt élevés sur de grandes surfaces et produit des charges thermiques minimales. L'unité fournit une source de plasma basse pression pour promouvoir des taux de pulvérisation plus élevés avec des coûts d'exploitation plus faibles, et une plus grande uniformité sur de grandes surfaces. Sa machine à canon à électrons à « écriture directe » contrôlée avec précision est conçue pour assurer une excellente uniformité de l'épaisseur du film sur de grandes surfaces. VARIAN MBB 830 intègre également un outil informatique conçu sur mesure avec PC hôte et logiciel de télécommande pour fournir un contrôle flexible du processus de dépôt. L'actif est capable de déposer un large éventail de matériaux tels que des oxydes, des nitrures, des carbures, des silicures et des alliages grâce à sa technologie à base de pulvérisateurs magnétron RF, avec des gaz réactifs et des gaz inertes. Ce procédé de dépôt à base de pulvérisateurs maintient la stabilité du matériau du substrat et permet également d'obtenir des couches de films d'ultra-haute pureté sous diverses formes et tailles. TOKYO ELECTRON MBB 830 est conçu pour une utilisation en production de volume, fournissant des résultats de processus reproductibles et de haute qualité. Il est également capable de débit élevé (jusqu'à 450 x 400mm) pour presque n'importe quel substrat de taille, et une excellente source de rotation et de mouvement d'axe d'inclinaison pour le dépôt précis de films multicouches. Le MBB 830 comprend une gamme complète de solutions de surveillance de processus telles qu'un spectrophotomètre en ligne, un modèle de prélèvement d'échantillons robotisés à température contrôlée, un moniteur de points de canon à électrons, un équipement de métrologie optique interne et un microscope vidéo à travers la lentille. Ces solutions permettent aux utilisateurs de contrôler de façon inégalée leurs résultats en couches minces et de maintenir des performances de qualité dans le temps. VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830 offre des capacités de dépôt de couches minces de haute précision et fiables, ainsi qu'une grande assurance qualité et un contrôle des procédés, ce qui en fait un choix idéal pour des applications de dépôt exigeantes.
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