Occasion VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB #293600880 à vendre en France

TEL (VARIAN/VARTOKYO ELECTRON) VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB (Magnetron Sputter Deposition Equipment) est un système de dépôt de pulvérisation à haute performance, commandé par ordinateur, qui est utilisé pour déposer des films minces sur divers substrats, tels que le verre, le métal et le plastique. L'unité est conçue pour déposer des métaux, des semi-conducteurs et d'autres matériaux avec la plus grande précision La machine se compose d'une source de pulvérisation électromagnétique accélérée, d'une chambre à vide et d'une console de commande. La source de pulvérisation a une conception spéciale magnétron, qui assure une vitesse uniforme de dépôt de revêtement et répond aux exigences d'uniformité des puces semi-conductrices. En outre, la source de pulvérisation est conçue pour déposer des métaux, des semi-conducteurs et d'autres matériaux avec la plus grande précision. L'outil a également une seule tête en boucle fermée pour permettre une couverture de revêtement parfaite. La chambre à vide est équipée d'un outil de contrôle de la température pour assurer la stabilité et l'uniformité de la température du procédé, offrant un meilleur contrôle du procédé et une meilleure préparation du substrat. Le modèle comprend également un équipement de contrôle du débit de gaz pour fournir une alimentation optimale en gaz pulvérisateur, et un système d'épuration des gaz pour éliminer les gaz corrosifs de l'unité. La console de contrôle est très interactive, permettant aux utilisateurs de surveiller et de contrôler le processus de pulvérisation avec facilité. Grâce à l'utilisation d'une interface utilisateur graphique, les opérateurs peuvent surveiller et ajuster les paramètres du processus tels que la pression, les matériaux de revêtement, la température cible, la puissance et les pulvérisateurs. VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON/VARTEL MBB est conçu pour fonctionner dans des environnements de production et de recherche. Ses caractéristiques avancées en font un choix idéal pour le dépôt de couches minces sur n'importe quel substrat, des substrats en verre délicat dans les applications de R&D aux substrats à grande échelle à des fins industrielles. Sa conception unique en magnétron assure une vitesse de dépôt uniforme, une couverture supérieure et un film métallique cohérent. De plus, son outil de régulation de température assure un processus de dépôt reproductible, précis et stable. Avec sa facilité de fonctionnement et ses performances constantes, l'actif est un choix idéal pour le dépôt de couches minces.