Occasion VEECO / DEKTAK Spector #9160719 à vendre en France
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Vendu
ID: 9160719
Style Vintage: 2000
Dual ion beam sputtering system
Dual ion sources:
16 cm Ion source as the major sputtering source
12 cm Ion source as assisting source
Target:
(3) Round targets, 14" dia
Water cooled backing plate
Target materials: 1 Ta & 2 SiO2
Rotation:
High speed fixture
Internal control
Water cooling
Heater: Yes
Pumping system:
CTI CRY-400 On-board
CTI 9600 Compressor
Mechanical pump (US Motor model G78597)
RGA: No
OMS:
VEECO OMS system, excluding tunable laser source
VEECO OMS computer and OMS hardware setup excluding tunable laser
VEECO OMS software loaded with the OMS computer
Controllers Included:
RF-2001 Controller
DC Bias 2051
Neutralizer 2070
Software: Spector version 6.0
Applications:
DWDM Filters
Laser line filters
Packing density filters
Optical thin film for high-power laser applications
Currently installed
2000 vintage.
VEECO/DEKTAK Spector est un équipement de pulvérisation conçu pour un profilage de surface de haute précision. Il utilise une combinaison de réflectométrie de surface par rayons X (XSR) et un codeur interférométrique optique (OIE) pour mesurer les propriétés de surface d'un substrat. Le système VEECO Spector utilise un procédé de dépôt par pulvérisation cathodique pour former une couche de matériau déposé sur l'échantillon. La technique XSR permet de déterminer avec précision la topologie de surface, tandis que l'OIE permet de mesurer la rugosité de surface. La technique XSR consiste à projeter le rayonnement X sur la surface de l'échantillon à partir d'une source de rayons X. Le rayonnement réfléchi est ensuite reçu par un détecteur de rayons X et analysé pour déterminer la topologie de l'échantillon. L'encodeur OIE fonctionne de manière similaire, mais au lieu d'être limité aux rayons X, n'importe quelle source lumineuse peut être utilisée. L'OIE utilise une technique d'interférence selon laquelle la lumière est divisée en deux faisceaux et réfléchie sur la surface de l'échantillon. La différence entre les faisceaux réfléchis est utilisée pour détecter avec précision le profil de surface. L'unité de pulvérisation de Spector DEKTAK comprend une machine à vide à distance, un moniteur de pression et une interface informatique pour contrôler les réglages de l'outil. L'actif de vide à distance est responsable de maintenir le vide dans la chambre et peut être programmé pour atteindre des points de consigne de 1,0 mbar à 1e-8 mbar. Le moniteur de pression mesure la pression dans la chambre et envoie des alarmes lorsque la pression atteint la limite fixée. L'interface informatique est utilisée pour contrôler la puissance de la source de pulvérisation, la vitesse de dépôt, la rotation du substrat et d'autres paramètres. Le modèle spector sputter est utilisé pour toute une gamme d'applications de dépôt de matériaux, de modification de surface et d'analyse, y compris les dépôts métalliques, les oxydes, les couches minces, les oxydes pulvérisés et les structures nanométriques. Il est largement utilisé dans les industries de la mémoire et de l'électronique et permet un contrôle précis des couches et une uniformité. L'équipement de pulvérisation VEECO/DEKTAK Spector peut également être utilisé pour surveiller les taux de croissance in situ, ainsi que pour analyser les propriétés structurelles du matériau déposé. En conclusion, VEECO Spector sputter system est une unité avancée de profilage de surface et de dépôt de matériaux. Il utilise la technique XSR pour la détermination de la topologie de surface et l'OIE pour la mesure de la rugosité de surface et est utilisé pour toute une gamme d'applications de dépôt de matériaux, de modification de surface et d'analyse. La machine est largement utilisée dans les industries de la mémoire et de l'électronique et permet un contrôle précis des couches et une uniformité.
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