Occasion VEECO / IONTECH RF2051 #293798833 à vendre en France

VEECO/IONTECH RF2051 est un équipement de pulvérisation haute performance conçu pour le dépôt de couches minces dans diverses applications de semi-conducteurs et de recherche. Ce système de pointe allie technologie innovante et contrôle de précision pour fournir des couches minces fiables et reproductibles avec une uniformité et une qualité exceptionnelles. VEECO RF2051 dispose d'un design robuste et polyvalent qui permet une large gamme de processus de pulvérisation, y compris la pulvérisation magnétron DC, la pulvérisation RF et la pulvérisation réactive. L'unité est équipée d'une puissante alimentation RF et d'un réseau d'adaptation d'impédance intégré pour assurer une production de plasma optimale et la stabilité pendant le processus de dépôt. Ceci permet à la machine d'obtenir des taux de dépôt élevés et une épaisseur de film uniforme sur de grandes zones de substrat. Une des caractéristiques clés de l'IONTECH RF 2051 est ses capacités avancées de contrôle des processus. L'outil est équipé d'une interface conviviale qui permet aux opérateurs de programmer et de surveiller facilement le processus de dépôt en temps réel. L'actif dispose également de fonctions d'automatisation avancées, telles que la gestion des recettes et la surveillance in situ, pour garantir la qualité et la reproductibilité des films. Le modèle de pulvérisation RF 2051 est construit avec des matériaux et des composants de haute qualité pour garantir la fiabilité et les performances à long terme. La chambre de l'équipement est construite en acier inoxydable et présente une conception à double couche pour minimiser la contamination et assurer des conditions de traitement propres. Le système est également équipé de systèmes avancés de pompage sous vide et de systèmes de distribution de gaz pour maintenir un environnement de processus de haute pureté et atteindre des niveaux de pression de base bas. En ce qui concerne la manipulation du substrat, RF2051 offre une configuration flexible qui peut accueillir une large gamme de tailles et de formes de substrat. L'unité est équipée d'un chauffe-substrat multi-zones et d'une machine de rotation pour assurer une répartition uniforme de la température et améliorer l'adhérence du film. L'outil dispose également d'une variété d'options de support de substrat, y compris la rotation planétaire et le réglage d'inclinaison, pour optimiser l'uniformité et la couverture du film. VEECO RF 2051 est conçu pour répondre aux exigences exigeantes de la fabrication de semi-conducteurs et des applications de recherche. L'actif est compatible avec un large éventail de matériaux, y compris les métaux, les oxydes et les nitrures, ce qui le rend idéal pour une variété de procédés de dépôt de couches minces. Que ce soit dans un environnement de production ou dans un laboratoire de recherche, le modèle de pulvérisation IONTECH RF2051 offre des revêtements haute performance avec une excellente adhérence, densité et propriétés optiques. Dans l'ensemble, l'équipement de pulvérisation VEECO/IONTECH RF 2051 est un outil polyvalent et fiable pour le dépôt de films minces de haute qualité dans une variété d'applications. Avec sa technologie de pointe, son contrôle précis et son interface conviviale, VEECO/IONTECH RF2051 permet aux chercheurs et aux fabricants d'obtenir des résultats cohérents et reproductibles pour un large éventail de procédés de dépôt en couches minces.