Occasion VEECO Spector #9004435 à vendre en France

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ID: 9004435
Parts System Ion Source 16cm Body: OK Grids w/ quartz: NG Cables: OK Power supplies: NG (can be prepared with additional cost) RFN: Only feedthrough (w/ matching box) Ion Source 12cm Body: OK Grids w/ quartz: NG Cables: OK Power supplies: NG (can be prepared with additional cost) RFN: Only feedthrough (w/ matching box) ITAVS: NG, it has been removed so the system does not work well GFC1100: NG OMS: OK PC's: OK (Unfortunately cannot be tested without ITAVS Motor Driver: NG Targets w/ Backing plates: NG Target Motion control: OK High Speed Substrate fixture: OK Touch screen on the display monitor: NG Display Monitor: For control: NG, For OMS: OK MFC: OK Manuals: OK.
VEECO/DEKTAK Spector est un équipement de pulvérisation conçu pour des applications dans les domaines de la photonique, de l'optoélectronique, du développement d'implants médicaux et de la recherche sur les dispositifs quantiques. Ce système permet le dépôt en couches minces de métaux, d'isolants et de semi-conducteurs pour développer des structures nanométriques sur un substrat. Le modèle VEECO Spector est la dernière version de la famille VEECO, et il offre des fonctionnalités et des fonctionnalités jusque-là indisponibles dans les systèmes de pulvérisation. DEKTAK Spector dispose de quatre chambres de pulvérisation distinctes, chacune avec ses paramètres de contrôle et de dépôt individuels. Ces chambres sont alimentées par une source de plasma indépendante, ce qui permet une pulvérisation hautement efficace et répétable de matériaux magnétiques durs. Spector dispose également d'une électrode de pulvérisation avancée avec un réglage très flexible pour le contrôle de distance et d'angle. Cela permet aux chercheurs d'ajuster le flux énergétique total et la vitesse du matériau pulvérisé sur un large éventail de paramètres. De plus, la machine de protection de niveau substrat de VEECO/DEKTAK Spector assure que les films déposés restent non contaminés pendant le processus. Une caractéristique clé de VEECO Spector est sa configuration de source à double champ magnétique. Cela signifie essentiellement que deux aimants à polarité alternative sont utilisés pour contrôler le processus de pulvérisation. Ceci permet un contrôle plus précis de la gamme de paramètres, permettant un dépôt régulier et répétable. De plus, cet outil réduit également les dommages collatéraux causés par les collisions ioniques avec la cible et la surface du substrat, ce qui permet aux chercheurs de créer des structures nanométriques plus durables. DEKTAK Spector dispose également d'un outil de conception et de contrôle de chambre de pointe. Cela permet aux chercheurs de contrôler précisément tous les paramètres au cours du processus de pulvérisation, tels que la pression, la température et le temps. En outre, Spector dispose d'un modèle intégré d'optimisation des paramètres qui peut ajuster automatiquement les paramètres pour maximiser l'efficacité du processus. Il est ainsi plus facile de résoudre les problèmes au cours du processus de dépôt. En conclusion, VEECO/DEKTAK Spector est un équipement de pulvérisation perfectionné qui offre des fonctionnalités et des capacités auparavant indisponibles. Sa source de plasma à double champ magnétique, ses paramètres de contrôle de précision et son système d'optimisation des paramètres fournissent aux chercheurs un contrôle extrêmement précis du processus de dépôt. Cela permet aux chercheurs de développer des structures et des composants à l'échelle nanométrique pour diverses applications nécessitant des performances extrêmement élevées et une durabilité extrême.
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