Occasion VON ARDENNE CF 850S #9300986 à vendre en France

VON ARDENNE CF 850S
ID: 9300986
Sputtering system (2) Cluster systems.
VON ARDENNE CF 850S est un équipement de pulvérisation haute performance conçu pour fournir des procédés de dépôt de revêtement supérieurs. Ce système est tout-en-un, avec une chambre pour le revêtement, et une autre pour le recuit. L'unité comprend une machine de positionnement ultra-précise pour les cibles de pulvérisation, avec une répétabilité maximale de +/- 0,02 mm. Cela permet des dépôts homogènes précis sur de grandes surfaces. CF 850S est un outil de pulvérisation magnétron à verrouillage de charge, apte à fournir des couches épaisses et minces uniformes de revêtements conducteurs, isolants et semi-isolants de couches minces. Il est capable de pulvériser à des taux allant jusqu'à 1500 W/in2 avec une uniformité de +/- 4 %. Cet actif peut accueillir jusqu'à trois chambres à vide, et jusqu'à neuf cibles, ce qui le rend idéal pour les dépôts multicouches. Le modèle dispose également d'une unité de contrôle des pulvérisateurs embarqués qui peut réguler le débit de gaz, la pression, le rapport des gaz, la température et d'autres paramètres de processus. L'équipement dispose également d'une interface utilisateur intuitive pour un fonctionnement simple, et d'une variété de systèmes de sécurité et de surveillance, depuis les capteurs de température et les jauges ioniques jusqu'aux capteurs de charge spécifiques au substrat et au contrôle des dépôts métalliques. VON ARDENNE CF 850S est conçu pour fonctionner en salle blanche, avec étanchéité hermétique, isolation des vibrations et panneaux électriques refroidis à l'air et à l'eau pour assurer la sécurité et la fiabilité. La chambre a une surface de travail standard de 18 « x 18 » x 15 «, avec une empreinte en option de ~ 40 » x 40 « x 80 » pour les substrats de plus grande taille. Il est conçu pour fonctionner dans une large gamme de vitesses, de quelques millimètres par seconde jusqu'à 2000mm/sec. L'utilisation de ce système de pulvérisation permet de déposer un large éventail de films et de revêtements avec un minimum de matière et de consommation d'énergie. Cela permet une manière flexible et économique de produire des produits en couches minces de haute qualité et uniformes. En outre, cette unité offre une gamme d'options et de fonctionnalités pour une plus grande flexibilité, y compris le contrôle des paramètres de processus, des profils de pression et de la distance cible/substrat.
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