Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Mirra Mesa #9222045 à vendre en France
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Vendu
ID: 9222045
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
CMP System, 8"
Technology: CMP STI
Wafer shape: Flat
Application information:
Application: Oxide
System: Dry in / Dry out
Device type: D-RAM
Device geometry: 0.13 Microns
Consumed process materials:
Polish slurry: STI
Platen 1 pad: IC1010
Platen 2 pad: IC1010
Platen 3 pad: IC1010
Pad conditioner: Diaphraghm
Pad conditioner head: DDF3
Pad conditioner holder: Standard
Factory interface options:
Cleaner type: MESA (Converted from reflexion)
Megasonics
Robot type: AMAT
In situ removal rate monitor: Digital
SECS GEM Interface
Cassette tank
Open cassette
Integrated system basic: Fabs 212
Platen and head options:
Polishing head: (4) TITAN I Heads
(4) Retaining rings
Pad wafer loss sensor
Slurry delivery options:
Slurry delivery: (2) Slurries by peristalic pump
Slurry flow rate: STD Flow
Slurry flow monitor
Slurry containment bulkhead
Slurry loop line: No
Slurry dispense arm: Extendad rinse arm
Slurry leak detector: No
DI Water
High pressure rinse
Umbilicals:
Polisher to controller cable: 30 Ft
Controller to monitor cable: 30 Ft
Factory hookup:
Upper exhaust: Standard
Upper exhaust connection: 8"
Drain manifold: 4 Line to Fac
Drain adapter: NPT Fitting
Castors for mirra system: No
Weight distribution plate (Skid pad)
User interface:
Stainless cart
PC Mouse
Hard disk backup: No
Polisher / Fabs light tower:
Tower mounting type: (4) Lights
Tower colors sequence: RYGB
(4) Tower colors
Cleaner option: Mesa cleaner
Maintenance options:
Spray gun: Single
Lapping stone: No
Special options:
Nylon brush: No
E-Chain teflon sheet: Water fall
Low pressure release water: No
Mesa:
Direct checm type:
Megasonic module
Brush 1
Brush 2
Standard:
SRD
Output station
Electrical requirements:
Line voltage: 200~230V
Line frequency: 50/60 Hz
Delta connection
Power lamp: Green
Power connected lamp: No
Circuit breaker: 200A
AC Outlet box: 100V
Configurable I/O: No
Wide type GFI: 50mA
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Mirra Mesa est un équipement automatisé de broyage, de nappage et de polissage de plaquettes semi-conductrices pour des procédés avancés de couches minces. Il est capable de broyer, napper et polir des plaquettes en un seul système, éliminant le besoin de plusieurs pièces d'équipement. AKT Mirra Mesa est une unité de pointe, très efficace. Ses caractéristiques comprennent des temps de cycle de broyage, de rodage et de polissage entièrement automatisés, ainsi que le chargement robotique et le déchargement des plaquettes, et la commande et le contrôle global. Il fournit un débit élevé, des résultats de haute qualité, et peut traiter jusqu'à 200 plaquettes par heure. La machine est capable de broyer, napper et polir des plaquettes jusqu'à 8 "de diamètre. Ses procédés de polissage garantissent des surfaces lisses et exemptes de défauts avec des valeurs Ultra-Low K, ce qui est essentiel pour les appareils qui nécessitent des films extra-minces. L'outil utilise également la technologie MultiGrit™, qui minimise le nombre d'étapes de polissage nécessaires et assure une finition de surface uniforme. AMAT Mirra Mesa est configurable pour répondre aux besoins spécifiques de chaque processus. Sa conception modulaire permet une intégration facile avec les processus existants, tandis que son fonctionnement à haut rendement permet un coût de possession minimal. En outre, il peut être interfacé avec les consoles de l'opérateur, ainsi qu'avec d'autres ordinateurs, afin de maximiser l'efficacité des actifs. Le modèle est également très fiable ; ses capacités d'autosurveillance et d'auto-calibrage réduisent les temps d'arrêt. Des systèmes de sécurité sont également en place pour protéger le personnel et les plaquettes. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Mirra Mesa est un équipement de broyage, de nappage et de polissage de plaquettes très efficace et avancé, capable de produire des résultats très cohérents. Sa configurabilité, son débit élevé et son faible coût de possession en font le choix idéal pour les processus semi-conducteurs les plus exigeants d'aujourd'hui.
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