Occasion G&N MPS 3H132 #9199461 à vendre en France

ID: 9199461
Style Vintage: 1989
Grinding machine for silicon ingots 1989 vintage.
G&N MPS 3H132 est un équipement de broyage, de rodage et de polissage de plaquettes de pointe développé par Technica G & N. Conçu pour répondre aux exigences strictes de l'industrie des semi-conducteurs, le système bénéficie de performances de traitement supérieures grâce à son unité d'entraînement intégrée, la Broche 400. La broche de meulage de la machine est alimentée par un moteur à courant continu puissant et précis d'une puissance maximale de 7,5 Kw, permettant un traitement de surface précis des plaquettes. Ce moteur est encore renforcé par un outil de palier à 6 roulements unique, ainsi que par des paliers à manchons refroidis. Cela garantit que la broche de broyage fonctionne de façon fiable pendant de longues périodes avec un minimum d'usure. L'actif utilise également une étape avancée de rodage, un sous-système du processus de broyage et de polissage des plaquettes. Cette étape permet de s'assurer que la surface d'une plaquette traitée est lisse et uniforme, avec une finition de surface plus cohérente. Pour ce faire, le modèle utilise la technologie de nappage à trois rouleaux dorés G&N. Pendant la phase de polissage, un équipement d'entraînement 7 axes intégré avec des capacités d'inclinaison et de rotation ajuste localement les milieux abrasifs à la surface de la plaquette. Ceci permet des performances de polissage supérieures car la vitesse et la pression exercées par les milieux peuvent être précisément modifiées. Enfin, le système intégré de contrôle des processus de MPS 3H132 fournit à l'opérateur un aperçu complet du fonctionnement de l'unité. Cela leur permet d'ajuster et d'optimiser rapidement les paramètres au cours du processus. Dans l'ensemble, G&N MPS 3H132 est une machine de broyage, de nappage et de polissage de plaquettes très avancée avec une précision et une répétabilité supérieures. Grâce à son moteur à courant continu intégré et à son outil de contrôle de processus avancé, il est capable de fonctionner à grande vitesse et avec un minimum d'usure. Ceci en fait le choix parfait pour le traitement des applications semi-conductrices les plus exigeantes.
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